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離子研磨應(yīng)用技術(shù)研究
對(duì)于一般的內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察，使用傳統(tǒng)的機(jī)械研磨即可以達(dá)到需要的分析效果；但是對(duì)于某些精度要求較高或是機(jī)械研磨外部應(yīng)力會(huì)產(chǎn)生影響的情況下，使用高精度、無應(yīng)力的研磨 - 離子研磨就很有必要。
離子研磨實(shí)現(xiàn)的過程中，首先通過一個(gè)高壓電極來對(duì)氬氣進(jìn)行電離，從而形成氬離子；繼而再通過一個(gè)高壓電場(chǎng)來對(duì)氬離子實(shí)施加速，經(jīng)過帶有偏轉(zhuǎn)電場(chǎng)的離子槍頭，使其形成離子束對(duì)需要研磨的基材樣品進(jìn)行轟擊，將樣品表面物質(zhì)以原子的形態(tài)清除出去，以使得樣品達(dá)到無應(yīng)力研磨的效果。
我們的離子研磨拋光儀是通過物理科學(xué)技術(shù)來加強(qiáng)樣品表面特性。使用惰性氣體中具有代表性的氬氣作為氣源，通過加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內(nèi)，通過這種動(dòng)量轉(zhuǎn)換的方式，氬氣離子去撞擊樣品表面從而達(dá)到無應(yīng)力損傷的SEM觀察樣品。
1.雙離子束源
離子研磨拋光儀1060配有兩束離子束，可以同時(shí)聚焦在樣品表面，這樣大大提高了研磨拋光速度。離子束體積小，zui小化了氣體的需求量，但卻能釋放很大的能量。當(dāng)操作高能量時(shí)，即使在低角度的情況下，研磨速度也很快；當(dāng)操作低能量時(shí)，樣品表面材料濺射出的同時(shí)也不會(huì)帶來其他雜質(zhì)。
2.真空艙體和快速樣品傳遞
SEM離子研磨拋光儀1060的真空艙體保證了設(shè)備操作過程中持續(xù)真空，預(yù)真空鎖使真空艙體與外部環(huán)境隔離，保證了樣品轉(zhuǎn)移過程中的真空環(huán)境。小尺寸的樣品艙在后期維護(hù)中清理也更加簡(jiǎn)便。
3.實(shí)時(shí)樣品觀察
遮板可以阻止濺射的材料干擾樣品觀察。樣品表面上方內(nèi)置光源用以照明。 體視顯微鏡-選配 SEM離子研磨拋光儀可以通過一臺(tái)體視顯微鏡做樣品觀察。由于體視顯微鏡的工作距離較大，在研磨的時(shí)候可以直接在原處觀察； 高倍率的顯微成像系統(tǒng)-選配 SEM離子研磨切割儀可以配置一臺(tái)高倍率的顯微鏡、數(shù)碼相機(jī)以及視頻顯示器，通過抓取圖像并將圖像投影到顯示器上，此種方式是制備特定位置樣品的一個(gè)理想方式。 當(dāng)使用高倍顯微成像系統(tǒng)時(shí)，樣品將被傳送到預(yù)真空鎖的真空環(huán)境中拍照，然后再返回原位置繼續(xù)研磨拋光操作。
4.可電腦編程控制樣品移動(dòng)
離子研磨拋光儀1060具備樣品高度自動(dòng)感應(yīng)功能，目前業(yè)界僅我們的1060具備此功能。這也方便了操作者可以通過電腦編程來對(duì)樣品進(jìn)行重復(fù)定位、調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速度和往復(fù)擺動(dòng)角度。