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Polishing拋光
拋光是材料機械制樣的zui后一道工序。為了消除精磨引起的變形，需選用更為柔軟的平面，配合更小粒徑的拋光液體。
德國賀利氏古莎Heraeus Kulzer Technocloth拋光布
賀利氏古莎拋光布既可以用于自動磨拋也可用于手動磨拋，擁有與目前市場上主流磨拋設備支持盤尺寸匹配的拋光布型號。為便于客戶使用，賀利氏古莎Technocloth拋光布有三種固定模式：自粘型，靜電吸附型和磁性吸附型。
*的三層結構保證了拋光布工作時*平整度。同時也使得拋光布本身在FAS®固定系統盤上快速、簡單的固定位置。
自粘型
自粘型拋光布具有三層結構：表面磨拋層、超薄硬背基層和膠粘層。賀利氏Technocloth*的三層結構保證了拋光布工作時*平整度。同時也使得拋光布本身在FAS®固定系統盤上快速、簡單的固定位置。
靜電吸附型
靜電吸附型拋光布同樣具有三層結構：表面磨拋層、超薄硬背基層和XLAM®層。使用時，靜電吸附型拋光布與XLAM®固定系統盤配合使用，快速、簡單、平整度更佳。
磁性吸附型
磁性吸附型拋光布也是兩層結構：表面磨拋層和柔軟的Magnetic層。磁性吸附型拋光布避免了拋光布出現*性折痕和操作時出現傷口。與FMS®磁性固定系統盤配合使用，操作簡單、方便。
根據您的制樣需求，賀利氏向您推薦合適的拋光布。
選擇拋光布的相關參數標準：
切削能力
平整度
光潔度
的拋光布
2FC1
無紡布，合成纖維。
用于精磨軟質材料，拋光硬質和超硬材料
與3-9um金剛石懸浮液配合使用
2FC2
無紡布，合成纖維。
出色的拋光光潔度，用于拋光有色金屬。
與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。
2TT1
機織布，塔夫綢，合成纖維。
由于出色的切削能力和拋光布自身的平整度，用于粗拋難加工材料，例如韌性材料。
與6-15um金剛石懸浮液配合使用
2TS3
機織布，超薄緞子，天然纖維。
出色的自身平整度，拋光光潔度，保護試樣夾雜物和邊緣
與2-9um的金剛石懸浮液配合使用
2TS4
機織布，緞子，天然纖維。
出色的自身平整度，拋光光潔度和邊緣保護。尤其適用于對具有多種硬度或涂層試樣的拋光。使用壽命長。
與1-6um金剛石懸浮液配合使用。
3SE1
機織布，絲綢，合成纖維。
出色的自身平整度和拋光光潔度。用于拋光軟質材料。
與1-3um金剛石懸浮液配合使用。
3TL1
機織布，高阻抗，羊毛纖維。
用于拋光未包埋試樣。使用壽命長。
與3-6um金剛石懸浮液配合使用。
3FV1
植絨布，中等硬度，短膠粘纖維。
出色的拋光光潔度。用于拋光硬質材料。
與1-3um金剛石懸浮液配合使用。
4FV1
植絨布，軟質，長膠粘纖維。
極其出色的拋光光潔度。用于拋光所有材料，包括非常軟的材料。
與0.25-3um金剛石懸浮液配合使用，也可與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。
4FV2
植絨布，軟質，長膠粘纖維。
極其出色的的拋光光潔度。用于拋光中等硬度材料。
與1-6um金剛石懸浮液配合使用。
4FV3
植絨布，軟質，長短雙膠粘纖維。
極其出色的拋光光潔度。用于拋光軟質材料。
與1um金剛石懸浮液配合使用。
4MP1
泡沫結構布，多孔聚氨酯泡沫。
用于終拋光需要拋光效果的敏感材料。
與0.05-0.25um氧化物拋光液體配合使用。
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