等離子清洗機清潔、改性、光刻膠灰化。適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設備，可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，等離子清洗機有兩種配置分別兼容4“/6"/8“或8“/12“晶圓。等離子清洗機的設計緊湊占地面積小，設備穩定可靠、易于維護、產能高。等離子清洗機能去除材料表面的機械損傷、化學溶劑、完整的綠色工藝、脫模劑、添加劑、增塑劑或其他由碳氫化合物組成的表面污染物。等離子清洗機表面清潔能去除牢固附著在塑料表面的非常細小的灰塵顆粒。通過一系列的反應和相互作用，等離子體清洗機能去除物體表面的這些塵埃顆粒。這可以顯著降低各行業等對質量要求較高的涂裝作業的報廢率。通過一系列微觀層面的物理化學作用，等離子體清洗機的表面清洗作用可以獲得精細、優質的表面。

等離子清洗機在去除光刻膠方面的具體使用：

等離子清洗機的應用包括預處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點、消除靜電、介電質刻蝕、有機污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機不僅能清除光刻膠等有機物，還能活化加粗晶圓表面，提高晶圓表面的浸潤性，使晶圓表面更加具有粘接力。

等離子表面處理機是利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。低溫等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔等目的。

等離子表面處理機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等，可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發生器，以適應不同的清洗效率和清洗效果需要。等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。