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鄭州歐諾儀器有限公司

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HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術參數

閱讀:935      發布時間:2022-11-30
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HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術參數范圍

本產品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗,恒溫培養以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用。

HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術參數技術參數

型號:HW.SY21-KP4(二列四孔)

規格:智能

功率:1000W

電源:220V±2V  50Hz

控溫范圍:室溫+5℃~99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性:≤±0.5℃

水槽尺寸(mm):(325×300×90)

特點:

    產品的內膽、外殼均采用優質不銹鋼拉絲板材,溫控系統采用微機PID智能控制,感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內。


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