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化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

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參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) Rpo-6型
  • 品牌 RTEC
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 國外
在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品

更新時(shí)間:2025-07-07 14:21:37瀏覽次數(shù):11577

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產(chǎn)品簡介

從小規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室經(jīng)濟(jì)角度出發(fā),Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)是用來研發(fā)CMP工藝流程、拋光晶片的替換選擇,它的高度靈活性可以對(duì)任何材料進(jìn)行拋光。
原位摩擦和拋光墊磨損測量
可替換探頭達(dá)到6英寸晶片
標(biāo)準(zhǔn)的工藝流程&消耗品的運(yùn)載

詳細(xì)介紹

  Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)主要特點(diǎn)
  技術(shù)
  化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是用來對(duì)正在加工中的晶片或其他物料進(jìn)行平坦化處理的過程,而拋光技術(shù)則是利用了物理和化學(xué)的協(xié)同作用對(duì)晶片進(jìn)行的拋光,通過給儲(chǔ)存在拋光片里樣本的底座一個(gè)加載力而完成的,當(dāng)包含了研磨劑和活性化學(xué)劑兩種成分的拋光液通過底部時(shí),拋光墊和樣本開始計(jì)數(shù)旋轉(zhuǎn)。
  原位摩擦
  該儀器通過測量原位摩擦和磨損程度來研究基本的拋光技術(shù),而摩擦的變化則可用來描述移除率的近似值。
  原位墊片磨損
  原位磨損率則可用來反應(yīng)在拋光,調(diào)節(jié)等情況下墊片的狀態(tài)。
  狀態(tài)
  原位和非原位調(diào)節(jié)
  晶片尺寸
  易于替換的晶片夾具可在同一測試儀上進(jìn)行拋光樣品的尺寸由1英寸至6英寸。
  泵
  獨(dú)立的可編程泵可提供泥漿,水以及其他的化工產(chǎn)品。
  消耗品和相關(guān)咨詢
  我們所提供的標(biāo)準(zhǔn)拋光材料里包含的不僅僅是儀器還有一系列的消耗品(拋光液、拋光墊等),與此同時(shí),我們科學(xué)團(tuán)隊(duì)也會(huì)為您提供有關(guān)工藝流程開發(fā)和優(yōu)化的咨詢服務(wù)。
  Rpo-6型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)規(guī)格
  人工晶片裝載
  臺(tái)式CMP研發(fā)系統(tǒng)
  原位和非原位調(diào)節(jié)
  使用可編程泵的泥漿和水管
  高硬度和良好的力控制
  340mm的滾筒直徑
  6英寸的樣本
  原位摩擦和墊片磨損選
  打印尺寸 w870x,d800x,h870mm
  應(yīng)用程序—CMP,MEMS,消耗品測試
  應(yīng)用
  拋光
  工藝開發(fā)
  環(huán)境開發(fā)
  拋光液開發(fā)
  拋光墊表征
  粒子開發(fā)



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