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美國SVT公司ALD原子層沉積系統

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  • 美國SVT公司ALD原子層沉積系統
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參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 ALD-05
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 國外
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更新時間:2025-07-07 14:28:01瀏覽次數:4277

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產品簡介

產地類別 進口 應用領域 電子/電池,電氣,綜合
美國SVT公司ALD原子層沉積系統
自1990年來薄膜淀積設備制造商。
擁有獨立的室內實驗室用于材料研究和工藝開發。
提供廣泛的服務,包括淀積設備、淀積部件、集成傳感器以及工藝控制
設備制造和工藝技術的高度結合,為客戶提供可靠的技術服務
實驗室7臺應用淀積設備生長出的材料
多條設備生產線幾乎覆蓋了整個薄膜淀積設備市場
在薄膜淀積領域擁有超過120臺設備的供應商。

詳細介紹

美國SVT公司ALD原子層沉積系統

自1990年來薄膜淀積設備制造商。
擁有獨立的室內實驗室用于材料研究和工藝開發。
提供廣泛的服務,包括淀積設備、淀積部件、集成傳感器以及工藝控制
設備制造和工藝技術的高度結合,為客戶提供可靠的技術服務
實驗室7臺應用淀積設備生長出的材料
多條設備生產線幾乎覆蓋了整個薄膜淀積設備市場
在薄膜淀積領域擁有超過120臺設備的供應商。

NorthStar ALD系統介紹

NorthStar ALD原子層沉積系統提供各種淀積方法,包括熱淀積以及能量增強淀積。
每臺設備可以提供多達8個源管路以及一個熱壁淀積腔,使其應用范圍極為廣泛。
設備的快速艙口蓋或裝載室(可選件)使樣品操作快捷方便。
NorthStar ALD系統不但能跟其他設備連接起來,還能連接多種測量儀器。
原位測量工具以及RoboALD軟件自動化系統提高了工藝的再現性。
可以直接升級至超高真空
提供工藝演示以及工藝培訓服務
為潛在客戶提供免費樣品測試。

應用領域

High-K電介質
納米涂層
MEMS
光子晶體
擴散阻擋層
器件封裝
表面改性層

技術參數

為科研客戶量身打造優質的原子層沉積系統。
提供4"、6"、8"、12"等多種尺寸的樣品平臺。
針對客戶的需求,提供多種輸氣設計。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---氣道加熱
---氣體快速進出
---樣品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加熱: up to 300 ℃, optional higher temp

主要特點

安全的設計,多樣化的配置,測試手段。
精確的控制手段打造*的成膜質量。強大的科研團隊鑄就雄厚的科技實力。
---氣體離子化
---臭氧輸送裝置
---石英振蕩器
---四重質量分光計
---實時溫度顯示
---橢偏儀
---進樣室 

 

 

 

 

 

 

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