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近日，NANO-MASTER工程師至浙江中寧硅業有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備！

NANO-MASTER的PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應用于等離子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據不同應用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規格的離子源。標準樣品臺尺寸有6"和8"可選，最高可定制到16"或者其他更大的尺寸，樣品臺可提供RF、Pulse DC或DC偏壓。樣品臺可提供電阻加熱或紅外燈加熱。

系統標配渦輪分子泵和機械泵，極限真空到5*10-7Torr，腔體壓力調節通過PC自動控制渦輪速度而全自動調節，快速穩定。

工藝過程通過觸摸監控屏幕和Labview軟件，可實現全自動的PC控制，具有高度的可重復性。系統具有完整的安全聯鎖，提供四級密碼授權訪問保護。能直接研發和量產應用。