為什么要在高真空下鍍膜? 1、真空狀態下，膜料的熔點溫度和蒸發溫度要比在大氣狀態下低得多。對高熔點的氧化物膜料，在真空狀態下其熔點要低得多。也就容易到蒸發溫度而不需太高的能量。
2、真空狀態下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發源到達基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長。膜料容易沉積在基片上。
3、 由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學活潑分子也少，高溫狀態的膜料分子就不會與之發生化學變化，從而保證膜層的膜料純度。
若晶振水堵塞后把晶振冷卻水管進口、出口從連接處斷開，并把閥門關上，用壓縮空氣從進口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出。
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