多功能電子束曝光系統(tǒng)

探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)

超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)

納米加工領(lǐng)域的瑞士軍dao

多用途的納米光刻系統(tǒng)

eLINE Plus被廣泛用于大學(xué)和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機(jī)多功能性的要求。

除具有專業(yè)的電子束光刻及成像功能，eLINE Plus還*集成了納米操縱設(shè)備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導(dǎo)過程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件，這使得eLINE Plus成為世界上*的、用途廣泛的電子束光刻系統(tǒng)。

納米工程、納米操縱，及聚焦電子束誘導(dǎo)過程

1. 先進(jìn)的熱場發(fā)射電子光學(xué)柱，可得到世jie領(lǐng)xian的小束斑尺寸
2. 開放的可升級的平臺(tái)理念
3. 廣泛的納米加工工藝
4. 多種探測器，可靈活地實(shí)現(xiàn)對準(zhǔn)標(biāo)記識別、成像，及材料分析方面的應(yīng)用
5. *的無寫場拼接的直寫模式（traxx /periodixx）
6. Raith NanoSuite軟件: 集所有模塊于一體的綜合軟件界面