EVG^®7200   Automated SmartNIL^® UV Nanoimprint Lithography S

EVG®7200   自動化SmartNIL®UV納米壓印光刻系統

具有EVG專有的SmartNIL®技術的自動全場UV納米壓印解決方案（大200毫米）

技術數據

EVG7200系統利用EVG的創新SmartNIL技術和EVG的材料專長來實現微米級和納米級結構的批量生產。該系統將SmartNIL的高級軟印和壓印功能帶到了更大的基板和更小的幾何形狀上，批量生產時的分辨率低至40 nm *。這帶來了更大的擁有成本（CoO）收益，并實現了納米壓印光刻技術的全部制造潛力。

*分辨率取決于過程和模板

特征

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有的SmartNIL®技術和多次使用的聚合物印模技術

集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作

盒帶到盒帶自動處理以及半自動R＆D模式

可選的頂部對齊

可選的迷你環境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發到生產的可擴展性

系統外殼，可實現佳過程穩定性和可靠性

技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）75至200毫米；

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm²

對準：可選的頂部對齊

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的