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高壓光化學反應釜主要進行催化劑的評價與工藝研究，工藝流程為氮氣氣體通過針閥控制進氣控制釜壓力，使用溫度300℃內，使用壓力：8MPA。光化學高壓反應釜，適用于光化學高壓反應、二氧化碳還原、二氧化碳還原制甲醇、二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。
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高壓光化學反應釜主要進行催化劑的評價與工藝研究，工藝流程為氮氣氣體通過針閥控制進氣控制釜壓力，使用溫度300℃內，使用壓力：8MPA。光化學高壓反應釜，適用于光化學高壓反應、二氧化碳還原、二氧化碳還原制甲醇、二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。
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