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　　高真空蒸發鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現有機材料的蒸鍍，可以滿足發光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設備。

　　原理：基于電阻蒸發原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍時蒸發源和樣品排出的氣體能被快速抽出；正常情況下，電鍍室幾乎沒有油汽回流，非常干凈。

　　高真空蒸發鍍膜儀是將待鍍膜的基材或工件置于真空室中，通過加熱使鍍層材料蒸發汽化沉積在基材或工件表面，形成薄膜或涂層的工藝。通過加熱蒸發一種物質，使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜。熱蒸發鍍膜技術是最古老的鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機主要用于碳蒸發，采用超純碳纖維繩為嚴格的高分辨率掃描電鏡、透射電鏡、EBSD和探針分析提供高質量的涂層處理。由于碳原子可以直接沉積在樣品表面而無需橫向移動，因此碳可以形成小于1nm的顆粒。

　　高真空蒸發鍍膜儀適用范圍：電子顯微鏡樣品制備和清潔燈條，以及科研、教學和企業實驗活動、工藝測試。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍過程中蒸發源和樣品排出的氣體能被快速抽出；正常情況下，電鍍室幾乎沒有油汽回流，非常干凈。