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1900度2公斤真空感應熔煉爐 參考價:面議
廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理和制備,也可進行合金鋼的真空...1900度真空定向凝固感應熔煉爐 參考價:面議
廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下晶體的生長2100度1公斤真空感應熔煉爐 參考價:面議
真空感應熔煉爐廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下晶體的生長2200度1Kg真空懸浮熔煉爐 參考價:面議
真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸1800度1Kg真空感應熔煉爐 參考價:面議
1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼鎳鈷合金中頻感應熔煉爐 參考價:面議
中頻感應熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節能環保,非常適合實驗室進行金屬樣品研究。廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料(如 不銹...中頻真空感應熔煉爐 參考價:面議
中頻真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼,占有相當比例的產品是采用真空感應熔煉爐生...2600度150克真空懸浮熔煉爐 參考價:面議
真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸2200度500g真空懸浮熔煉爐 參考價:面議
真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸2200度2Kg真空懸浮熔煉爐 參考價:面議
真空感應懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中,利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸。這樣就避免...1200℃微型箱式爐1L 參考價:面議
1200℃微型箱式爐,爐膛尺寸:100mm×100mm×100mm;爐膛容積1L,外形尺寸:260mm×260mm×380mm1700硅鉬棒箱式爐 參考價:面議
1700硅鉬棒箱式爐,爐膛尺寸:120mm×120mm×130mm;極限溫度:1700℃; 整機功率:1.8KW;多段程序控溫.1700硅鉬棒箱式爐11L 參考價:面議
1700硅鉬棒箱式爐11L,爐膛尺寸:150mm×150mm×150mm;極限溫度:1700℃;整機功率:4KW;多段程序控溫.1700硅鉬棒箱式爐21L 參考價:面議
1700硅鉬棒箱式爐21L,爐膛尺寸:200mm×200mm×200mm;極限溫度:1700℃;工作溫度:≤1650℃;整機功率:4.5KW;多段程序控溫。1700硅鉬棒箱式爐31L 參考價:面議
1700硅鉬棒箱式爐31L,爐膛尺寸:250mm×250mm×300mm;極限溫度:1700℃;整機功率:4.8KW;多段程序控溫.1700硅鉬棒箱式爐41L 參考價:面議
1700硅鉬棒箱式爐41L,爐膛尺寸:300mm×300mm×400mm;極限溫度:1700℃;整機功率:9.5KW;多段程序控溫。1500硅碳棒箱式爐11L 參考價:面議
1500硅碳棒箱式爐11L,爐膛尺寸:150mm×150mm×150mm;*高溫度:1500℃;整機功率:4KW;多段程序控溫。1500硅碳棒箱式爐21L 參考價:面議
1500硅碳棒箱式爐21L,爐膛尺寸:200mm×200mm×200mm;*高溫度:1500℃;工作溫度:≤1450℃;整機功率:4.5KW;多段程序控溫.1500箱式爐31L 參考價:面議
1500箱式爐31L,爐膛尺寸:250mm×250mm×300mm;zui 高溫度:1500℃; 工作溫度:≤1450℃;整機功率:4.8KW;多段程序控溫。1500℃箱式爐41L 參考價:面議
1500℃箱式爐41L箱式爐,爐膛尺寸:300mm×300mm×400mm;zui 高溫度:1500℃;工作溫度:≤1450℃;整機功率:7.5KW;多段程序控...三溫區管式爐(配擴散泵合金管) 參考價:面議
本產品特點:電加熱,高真空,三(03)區,臥式,分體式(用于快速冷卻),管式爐。本套管式爐為三溫區加熱,每段的加熱區長可以聯系技術人員進行定制。加熱由精密控溫儀...離子源電子束蒸發鍍膜儀 參考價:面議
該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃...5×8位PLC控制精密浸涂機 參考價:面議
5×8位PLC控制精密浸涂機是專為研究液相生長薄膜而設計的精密設備,通過垂直提拉樣件在液相中運動而使樣件表面生長薄膜。5×8位PLC控制精密浸涂機采用高精度速度...PLC控制精密提拉機 參考價:面議
PLC控制精密提拉機是專為研究液相生長薄膜而設計的精密設備,通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。PLC控制精密提拉機可對較大的樣品進行涂膜,樣件尺寸可達310...