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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀） 參考價：235000
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍...
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：198000
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配源功率從500W-1000W不等的射頻電源。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：210000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：290000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價：280000
非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成到一層立式機柜中，包括射頻...
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀 參考價：面議
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗的觀察記錄...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層
UPS三靶磁控濺射鍍膜機 參考價：250000
UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體...
磁控濺射真空蒸發復合型鍍膜設備 參考價：面議
磁控濺射真空蒸發復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用...
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀 參考價：350000
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統，具有雙靶2“目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜...
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀 參考價：10000
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準確的測量結果
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等往復式設...
溫度濕度振動三綜合環境試驗箱 參考價：面議
溫度濕度振動三綜合環境試驗箱適用于航空航天產品、信息電子儀器儀表、材料、電式、電子產品、各種電子元氣件在溫度、濕度、振動綜合環境條件下檢驗其各性能項指標綜合環境...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：280000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：49800
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非...
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直...
往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀 參考價：38000
往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實驗室級鍍膜設備，采用磁控濺射技術，可在真空環境下實現金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。桌面型單靶磁控鍍膜儀小型化...
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺 參考價：250000
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、...
傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 參考價：50000
本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用...
放電等離子燒結爐（SPS） 參考價：面議
放電等離子燒結爐（SPS）溫度可高達1600℃?？捎糜诓牧贤嘶?，材料熱壓粘結，表面處理和合成等等。處理樣品可為金屬，陶瓷，納米材料和非晶材料等。放電等離子燒結爐...
放電等離子燒結爐（SPS）（20T，1600℃） 參考價：面議
放電等離子體燒結系統，其*高溫度可達1600℃?？捎糜诓牧贤嘶穑牧蠠釅赫辰Y，表面處理和合成等等。處理樣品可為金屬，陶瓷，納米材料和非晶材料等。此設備特別適合于...
20T,1600度放電等離子燒結爐 參考價：面議
放電等離子燒結爐（SPARK PLASMA SINTERING， SPS）是一種粉末快速固結的新型技術。SPS利用強電流的脈沖電源來激發和促進材料的固結和反應燒...
20T放電等離子燒結爐 參考價：面議
放電等離子燒結爐可以用于研發新型材料，如陶瓷、金屬復合材料等，通過調整燒結參數和添加不同元素，可以制備出具有優異性能的新材料
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