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1200℃高溫18L箱式爐 參考價：20000
1200℃高溫18L箱式爐爐膛尺寸：300mm×300mm×200mm；zui 工作溫度≤1150℃；爐膛容積：18L；多段程序控溫
1700智能型高溫箱式爐 參考價：20000
1700智能型高溫箱式爐爐膛尺寸：300mm×300mm×350mm。工作溫度≤1650℃，爐膛容積30L。
1200℃三溫區旋轉管式爐 參考價：20000
1200℃三溫區旋轉管式爐采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥...
200mm大管徑回轉窯爐 參考價：20000
200mm大管徑回轉窯爐配有投料機構和旋轉機構，能夠保證反應連續均勻的發生，廣泛應用于鋰電池材料。
雙溫區滑動旋轉管式爐 參考價：20000
雙溫區滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現快速升降溫，十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料...
小型旋轉管式爐 參考價：15000
小型旋轉管式爐可實現在氣氛保護的環境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動，無需額外固定，爐管拆卸方便，便于取放樣品
全自動CVD滑軌爐 參考價：50000
全自動CVD滑軌爐系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣；真空泵可...
1200℃單溫區三通道混氣CVD系統 參考價：50000
1200℃單溫區三通道混氣CVD系統由單溫區管式爐和三路浮子流量計組成。由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側...
三溫區1600 CVD系統 參考價：50000
該三溫區1600 CVD系統主要用于真空燒結、氣氛保護性燒結、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
1700℃兩路浮子供氣氫氣還原CVD系統 參考價：50000
1700℃兩路浮子供氣氫氣還原CVD系統可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為了匹配通...
1200℃三溫區3路質量供氣高真空CVD系統 參考價：50000
1200℃三溫區3路質量供氣高真空CVD系統由三溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫區的溫度...
1500℃單溫區3路質量流量計高真空CVD系統 參考價：50000
1500℃單溫區3路質量流量計高真空CVD系統由1500℃單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降...
立式管式爐 參考價：15000
立式管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更高溫度和更大管徑的配置。默認加熱溫區為...
立式三溫區管式爐 參考價：15000
立式三溫區管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理。該款管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，采用高純氧化鋁多晶纖維制作爐膛，加熱元件為硅碳棒，可延長爐體使...
1200℃三溫區旋轉管式爐 參考價：15000
1200℃三溫區旋轉管式爐采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥...
1200 °C高真空鎳基合金三溫區管式爐 參考價：10000
1200 °C高真空鎳基合金三溫區管式爐采用鎳基合金作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為100mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更...
1200℃三溫區管式爐 參考價：20000
1200℃三溫區管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業，也可用于氣氛環境下的熱處理
1600°C放電等離子燒結爐 參考價：50000
1600°C放電等離子燒結爐可用于材料退火，材料熱壓粘結，表面處理和合成等等。處理樣品可為金屬，陶瓷，納米材料和非晶材料等。此設備特別適合于用于固態電...
2000℃放電等離子燒結爐 參考價：50000
2000℃放電等離子燒結爐（SPARK PLASMA SINTERING， SPS）是一種粉末快速固結的新型技術。SPS利用強電流的脈沖電源來激發和促進材料的固...
1L等離子清洗機13.56MHz 參考價：20000
1L等離子清洗機13.56MHz采用純凈的石英腔體，主機頻率13.56MHz，可用于多種材料的高效清洗。清洗效果遠遠優于40KHz的低頻清洗。臺式高效等離子清洗...
2L等離子清洗機 參考價：20000
2L等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。采用低氣壓激發等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。儀器配有一臺機械真空泵...
10L等離子清洗機 參考價：30000
10L等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。配有一...
15L等離子清洗機 參考價：30000
15L等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染
30L等離子清洗機 參考價：30000
30L等離子清洗機是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激發等離子體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染
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