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賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀標準化性能：
· 絕緣體分析
· 高性能XPS性能
· 深度剖析
· 多技術聯合
· 雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴展
· 用于 ARXPS 測量的傾斜模塊
· 用于儀器控制、數據處理和報告生產的 Avantage 軟件
· 小束斑分析
可選的升級：可將多種分析技術集成到您的檢測分析中。式自動運行
· ISS：離子散射譜，分析材料表面1-2原子層元素信息，通過質量分辨可分析一些同位素豐度信息。
· UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導體材料的價帶能級結構信息以及材料表面功函數信息
· 拉曼：拉曼光譜技術用于提供分子結構層面的指紋信息
· REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結構和帶隙信息
賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀應用領域
· 電池
· 生物醫藥
· 催化劑
· 陶瓷
· 玻璃涂層
· 石墨烯
· 金屬和氧化物
· 納米材料
· OLED
· 聚合物
· 半導體
· 太陽能電池
· 薄膜
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