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超聲波清洗技術經過幾十年的理論實踐,在工藝和設備上都得到了很大的發展，不僅研發了大批新產品，也制訂了更為先進的清洗工藝。

1.高頻超聲清洗

半導體硅片、太陽能電池硅片表面的超微污物粒子，如采用低頻超聲波，即使硅片擊碎，粒子依然附著其上，越是增加功率密度也沒任何效果。近來發展起來的兆赫高頻超聲清洗，其超聲頻率髙，實際上已不再是產生空化氣泡，而是高頻壓力波的擦洗作用，對污物的清除率也接近百分白，并且對硅片損傷微乎其微。因此近來發展較快,雖然造價昂貴，但硅晶圓太陽能行業仍趨之若鶩。

2.聚焦式清洗

化纖行業使用的噴絲板、其上面密密麻麻的微細孔，以前恐怕只有人工用細針來捅穿堵塞物，即使采用常規的超聲清洗效果也不理想，主要是聲強達不到要求，而采用機械掃描聚焦式超聲清洗，達到較高的聲強，在間隙脈沖狀態下，空化泡高密度的轟擊，噴絲板微孔內的污物脫離，達到清理殘留物的效果。

3.多頻清洗

在一臺超聲波清洗機槽體內，安裝兩組或三組以上不同超聲頻率的換能器，由多臺超聲波發生器分別推動各自頻率的換能器，超聲波清洗的頻率高，在液體中的空化密度大但空化強度低，而超聲波清洗的頻率低則正好相反，空化密度小但空化強度高，由于低頻超聲波的強度高，有利于物體表面清洗，高頻超聲波空化密度高，穿透細孔、縫隙、凹槽結構的能力強。因此在一臺中應用多種頻率的超聲波，就解決了一個頻率因駐波場造成的清洗不均勻問題。

4.掃頻和跳頻清洗

掃頻清洗和跳頻清洗都是為了改善清洗槽中的聲場結構，掃頻清洗解決了清洗槽的駐波場,使清洗更均勻；而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗，不同的是跳頻用的是一個換能器和一個發生器，其換能器本身具有兩個或多個諧振頻率，在第一諧振點帶寬內作連續的頻率變化，然后跳到另一帶寬內進行掃頻清洗，屬于高中低頻交替進行的清洗方式，這就是實現一臺超聲波發生器驅動一種換能器的多種頻率，并可實現頻率自由切換。