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XAU光譜分析儀是一款設計結構緊湊，模塊精密化程度*的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設計，是一款一機多用型光譜儀。
應用核心EFP算法和微光聚集技術，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區RoHS檢測及成分分析。
被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。
產品優勢：
微小樣品檢測：最小測量面積0.03mm2（加長測量時間可小至0.01mm2）
變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-30mm
自主研發的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準測量
*解譜技術：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限
高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器
光路系統：微焦加強型射線管搭配聚焦、光路交換裝置
應用領域：
廣泛應用于半導體行業、新能源行業、5G通訊、五金建材、航天航空、環保行業、汽車行業、貴金屬檢測、精密電子、電鍍行業等多種領域
多元迭代EFP核心算法（ZL號：2017SR567637）
專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法，結合*光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。
重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。
選擇一六儀器的四大理由：
1.一機多用，無損檢測
2.最小測量面積0.002mm2
3.可檢測凹槽0-30mm的異形件
4.輕元素，重復鍍層，同種元素不同層亦可檢測
真空金屬鍍層厚度測試儀
儀器配置
開放式樣品腔
精密二維移動樣品平臺，探測器和X光管上下可動，實現三維移動
雙激光定位裝置
鉛玻璃屏蔽罩
Si-Pin探測器
信號檢測電子電路
高低壓電源
X光管
高度傳感器
保護傳感器
計算機及噴墨打印機 性能優勢滿足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求
φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求
高精度移動平臺可精確定位測試點，重復定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動定位測試高度
定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊
鼠標可控制移動平臺，鼠標點擊的位置就是被測點
高分辨率探頭使分析結果更加精準
良好的射線屏蔽作用
測試口高度敏感性傳感器保護
技術指標
真空金屬鍍層厚度測試儀檢出限：可達2ppm，*薄可測試0.005μm元素分析范圍：硫（S）～ 鈾（U）
同時檢測元素：*多24個元素，5層鍍層
分析含量：2ppm～99.9%
鍍層厚度：50μm以內（每種材料有所不同）
任意多個可選擇的分析和識別模型
相互獨立的基體效應校正模型
多變量非線性回收程序
重復性：可達0.1%
穩定性：可達0.1%
操作環境溫度：15℃～30℃
電源：交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩壓電源
外觀尺寸： 576（W）×495（D）×545（H）mm
重量：90kg
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