SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障，其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應(yīng)用化學(xué)氣相沉積（CVD），SilcoNert®2000非常適用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量級測試精度（<百萬分之一）。
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