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[供應(yīng)]40V N溝道MOS 40V 10A 充電器MOS
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  • 40V N溝道MOS 40V 10A 充電器MOS
貨物所在地:
廣東深圳市
更新時(shí)間:
2025-03-27 09:25:01
有效期:
2025年3月27日 -- 2026年3月27日
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

深圳市三佛科技有限公司 供應(yīng) 40V N溝道MOS 40V 10A 充電器MOS,原裝,庫(kù)存現(xiàn)貨*

詳細(xì)介紹

深圳市三佛科技有限公司 供應(yīng) 40V N溝道MOS 40V 10A 充電器MOS,原裝,庫(kù)存現(xiàn)貨*

 HN4004采用*的溝槽技術(shù)和設(shè)計(jì),以提供的RDS(開(kāi)),低門電荷。它可以在各種各樣的應(yīng)用中使用

一般特性:vds=40V,id=13A rds(開(kāi))<11MΩ@vgs=10V(典型8.1兆歐)rds(開(kāi))<16兆歐@vgs=4.5伏(典型11 MΩ)。超低RDSON的高密度電池設(shè)計(jì)。*特征雪崩電壓和電流.。穩(wěn)定性好,均勻性好,EAS高。散熱性好的封裝。
應(yīng)用:負(fù)荷切換。硬開(kāi)關(guān)和高頻電路。不間斷電源。

提高充電速度的方法有兩個(gè)大方向:一是提高電壓,二是提高電流。提高電壓會(huì)增大充電過(guò)程中的發(fā)熱量,加速電池老化并可能帶來(lái)安全隱患,因此實(shí)際效果不佳。相比之下,提高電流則較為現(xiàn)實(shí)。VOOC閃充技術(shù)采用低電壓高電流模式,保證了充電過(guò)程中的安全性

HN4004主要替代:FKS4004,NCE4009S,NCE4012S

 品牌:HN
型號(hào):HN4004 
VDS: 40V
IDS: 10A
封裝: SOP8
溝道:N溝道
HN4004原裝現(xiàn)貨,HN4004優(yōu)勢(shì)*

 HN4004廣泛運(yùn)用于電源,充電器,控制板上。

 阿里店鋪:阿里 “供應(yīng)商 ”搜索 ,深圳市三佛科技有限公司,咨詢客服購(gòu)買。 
售后服務(wù):公司免費(fèi)提供HN4004樣品,并提供HN4004產(chǎn)品運(yùn)用的技術(shù)支持。
HN4004可替代:FKS4004,NCE4009S,NCE4012S,NCE4015S,NCE40ND0812S,AO4450,AO4480,AO4484,AP9465GEM,AP9466GM,AP9467AGM,AP9468GM,AP9470GM,AP9985GM。

 

場(chǎng)效應(yīng)管工作原理用一句話說(shuō),就是“漏極-源極間流經(jīng)溝道的ID,用以柵極與溝道間的pn結(jié)形成的反偏的柵極電壓控制ID”。更正確地說(shuō),ID流經(jīng)通路的寬度,即溝道截面積,它是由pn結(jié)反偏的變化,產(chǎn)生耗盡層擴(kuò)展變化控制的緣故。在VGS=0的非飽和區(qū)域,表示的過(guò)渡層的擴(kuò)展因?yàn)椴缓艽螅鶕?jù)漏極-源極間所加VDS的電場(chǎng),源極區(qū)域的某些電子被漏極拉去,即從漏極向源極有電流ID流動(dòng)。從門極向漏極擴(kuò)展的過(guò)度層將溝道的一部分構(gòu)成堵塞型,ID飽和。將這種狀態(tài)稱為夾斷。這意味著過(guò)渡層將溝道的一部分阻擋,并不是電流被切斷。
在過(guò)渡層由于沒(méi)有電子、空穴的自由移動(dòng),在理想狀態(tài)下幾乎具有絕緣特性,通常電流也難流動(dòng)。但是此時(shí)漏極-源極間的電場(chǎng),實(shí)際上是兩個(gè)過(guò)渡層接觸漏極與門極下部附近,由于漂移電場(chǎng)拉去的高速電子通過(guò)過(guò)渡層。因漂移電場(chǎng)的強(qiáng)度幾乎不變產(chǎn)生ID的飽和現(xiàn)象。其次,VGS向負(fù)的方向變化,讓VGS=VGS(off),此時(shí)過(guò)渡層大致成為覆蓋全區(qū)域的狀態(tài)。而且VDS的電場(chǎng)大部分加到過(guò)渡層上,將電子拉向漂移方向的電場(chǎng),只有靠近源極的很短部分,這更使電流不能流通。

 

 

 

 

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