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聚焦離子束電子束雙束顯微鏡可用于大規模集成電路的缺陷診斷、修補、離子注入、原位加工、掩膜版修理、刻蝕，集成電路設計修改，量子芯片器件制作，無掩膜加工，納米結構制作，復雜納米圖形加工，材料的三維成像與分析、超靈敏表面分析、表面改性，以及透射電鏡樣品制備等方面。應用需求廣泛，不可或缺。

目前，國儀量子推出的聚焦離子束電子束雙束顯微鏡DB500擁有自主可控的場發射電子鏡筒和“承影”離子鏡筒，是一款優雅全能的納米分析和制樣工具。高壓隧道技術（SuperTunnel）、低像差無漏磁物鏡設計，低電壓高分辨率成像，保證納米分析能力。“承影”離子鏡筒采用液態鎵離子源，擁有高穩定、高質量的離子束流，保證納米加工能力。集成式的納米機械手、氣體注入器，擁有24個擴展口，配置全面，自主可控，擴展性強，為您打造全能納米分析和加工中心。

為向用戶展示DB500的卓越性能，國儀量子電鏡團隊特別策劃了《國儀FIB秀》專題節目，將通過視頻呈現這臺尖端設備在材料科學、半導體工業、生物醫學等領域的廣泛應用。觀眾將了解DB500的工作原理，欣賞其拍攝的驚艷微觀圖像，并深入探索這一技術對科研和工業發展的重大意義。