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一、產品介紹
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。
二、基本參數
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等
光學精度：2μm
打印層厚：5-20μm
打印尺寸：
①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）
②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）
③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）
文件格式：STL
系統外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量：550kg
電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW
三、應用領域
類巴基球結構
應用領域：生物醫藥
特 點：整體尺寸： 0.2 × 0.2 × 0.2 mm3
桿徑：10 μm
中空多孔結構
微點陣
應用領域：力學超材料
特 點：整體尺寸： 1.2 × 0.8 × 0.6 mm3
桿徑：8 μm
懸空結構無支撐打印
3D打印微針、傾斜微針結構
應用領域：仿生材料
特 點：整體尺寸：10.8 × 6.7 × 1.5 mm3
最小jian端直徑：15 μm
可自由調控jian端尺寸及角度
微流控器件
應用領域：藥物篩選、生物檢測
特 點：整體尺寸：35 × 15 × 6 mm3
管道直徑：400 μm
復雜三維微流道
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