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光刻機(jī)各部件的功能

閱讀:2354        發(fā)布時間:2023/3/22
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  一般的光刻機(jī)工藝包括清洗和干燥硅片表面、涂覆底部、旋涂光刻膠、軟烘焙、對準(zhǔn)曝光、后烘焙、顯影、硬烘焙、蝕刻和其他工藝。光刻就是用光做一個圖形。將硅片表面的膠整平,然后將掩膜上的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,將器件或電路結(jié)構(gòu)暫時“復(fù)制”到硅片上的過程。接下來簡單介紹一下光刻機(jī)的功能。
 
  1.測量臺、曝光臺:承載硅片的臺,也就是雙臺。
 
  2.光束校正器:校正光束的入射方向,使激光束盡可能平行。
 
  3.光刻機(jī)能量控制器:控制照射在硅片上的能量。曝光不足或曝光過度都會嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。
 
  4.光束形狀設(shè)置:將光束設(shè)置成不同的形狀,如圓形和環(huán)形。不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。
 
  5.光刻機(jī)著色器:當(dāng)不需要曝光時,防止光束照射硅片。
 
  6.能量檢測器:檢測光束入射能量是否滿足曝光要求,反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整。
 
  7.玻璃板:一個里面刻有電路設(shè)計圖紙的玻璃板。
 
  8.掩模臺:承載運(yùn)動的設(shè)備,運(yùn)動控制精度為nm。
 
  9.光刻機(jī)物鏡:物鏡由20多個透鏡組成。它的主要功能是縮小掩模板上的電路圖,然后用激光映射至硅片上。物鏡還需要補(bǔ)償各種光學(xué)誤差。技術(shù)難點在于物鏡的設(shè)計,要求精度高。
 
  10.硅晶片:由硅晶體制成的晶片。硅片的尺寸有很多種,尺寸越大,成品率越高。此外,由于硅片是圓形的,所以需要在硅片上切割一個缺口來確定硅片的坐標(biāo)系,根據(jù)缺口的形狀可以分為兩種類型,即平面和缺口。
 
  11.光刻機(jī)內(nèi)部封閉框架和減震器:將工作臺與外部環(huán)境隔離,保持水平,減少外部振動干擾,保持穩(wěn)定的溫度和壓力。

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