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X射線熒光分析儀技術特點介紹

閱讀:3970        發(fā)布時間:2021/10/15
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  X射線熒光分析儀技術特點介紹:
 
  1、X射線熒光分析儀在測定微量成分時,由于X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會產(chǎn)生較大的背景,致使目標峰的觀測比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X射線對高靈敏度分析的影響,此熒光分析儀配置了4種可自動切換的濾光片,有效地降低了背景和散射X射線的干擾,調(diào)整出*具感度的輻射,進一步提高了S/N的比值,從而可以進行更高靈敏度的微量分析。
 
  2、X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會產(chǎn)生較大的背景,軟件可自動過濾背景對分析結果的干擾,從而能確保對任何塑料樣品的進行快速準確的分析。
 
  3、當某些元素的電子由高等級向低等級越遷時釋放的能量相近,會使此時譜圖的波峰重疊在一起,由此產(chǎn)生了重疊峰。自行開發(fā)的軟件自動剝離重疊峰,確保了元素分析的正確性。
 
  4、逃逸峰:由于采用的是Si針半導體探測器,因此當X射線熒光在通過探測器的時候,如果某種元素的含量較高(能量也會相應的較高),其被Si吸收的概率也就越大。此時,光譜圖中在該元素的能量值減去Si能量值的地方回產(chǎn)生一個峰,此峰即為逃逸峰。
 
  5、在電壓不穩(wěn)的情況下,可對掃描譜圖的漂移進行自動追蹤補償。

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