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產(chǎn)品簡介
BMF nanoArch® S130可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。
詳細介紹
BMF nanoArch® S130 系統(tǒng)簡介：
nanoArch S130是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級3D打印系統(tǒng)
nanoArch® S130是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
BMF nanoArch® S130 系統(tǒng)性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 2μm |
| XY打印精度 2~10μm | 打印層厚 5~20μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：3.84*2.16mm*10mm |
| 打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm | 重量 650kg |
| 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設(shè)備功率 3000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
系統(tǒng)特點
高精度
（XY打印精度高達2μm）
（XY打印精度高達2μm）
低層厚
（5μm~20μm的打印層厚效果對比）
（5μm~20μm的打印層厚效果對比）
微尺度大幅面的打印能力
光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動對焦功能
配置氣浮平臺，提高打印質(zhì)量
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應(yīng)用案例:
