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鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項"成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。
Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地
產品簡介
詳細介紹
鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀產品特點：
穩健高效的全固態光源：
● 全固態射頻發生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，具有優異的長期穩定性。
● 垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。
● 簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精-確的位置重現。
● 實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。
精密的光學系統：
● 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用超純SiO2棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區的元素測量。
● 優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。
● 光室多點充氣技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。
● 光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。
● 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。
進樣系統：
● 儀器配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫-氟酸等樣品的測試。
● 使用一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。
● 使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，流量連續可調，保障測試性能長期穩定。
● 4通道12滾輪蠕動泵，泵速連續可調，確保樣品導入穩定性。
檢測器：
● 大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出
● 具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度
● 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，獲得更為快速、準確的分析結果
● 同類產品中大靶面尺寸，百-萬級像素，單像素面積24μm X 24μm
● 三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃，具有更低的噪聲和更好的穩定性
鋼研納克Plasma2000ICP光譜儀技術參數：
● 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm
● 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）
● 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
● 晶體管固態射頻發生器，小巧高效
● 27.12MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
● 自動匹配調節
● 全組裝式炬管，降低了維護成本
● 計算機控制可變速12滾軸四通道蠕動泵，具有快速清洗功能
● 實驗數據穩定性良好：重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD ≤2.0%（大于3小時）