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國產ICP光譜儀Plasma2000是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項"成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。
Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。
產品簡介
詳細介紹
Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。
國產ICP光譜儀Plasma2000產品特點：
穩健高效的全固態光源：
1、全固態射頻發生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，具有優異的長期穩定性。
2、垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。
3、簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，準確的位置重現。
4、實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。
精密的光學系統：
1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用超純SiO2棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區的元素測量。
2、優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。
3、光室多點充氣技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。
4、光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。
5、包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。
進樣系統：
1、儀器配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含HF等樣品的測試。
2、使用一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。
3、使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，流量連續可調，保障測試性能長期穩定。
4、4通道12滾輪蠕動泵，泵速連續可調，確保樣品導入穩定性。
檢測器：
1、大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出。
2、具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度。
3、一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，獲得更為快速、準確的分析結果。
4、同類產品中大靶面尺寸，bai-萬級像素，單像素面積24μm X 24μm。
5、三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃，具有更低的噪聲和更好的穩定性。
國產ICP光譜儀Plasma2000技術參數：
1、光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm；
2、譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）；
3、光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm；
4、晶體管固態射頻發生器，小巧高效；
5、27.12MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限；
6、自動匹配調節；
7、全組裝式炬管，降低了維護成本；
8、計算機控制可變速12滾軸四通道蠕動泵，具有快速清洗功能；
9、實驗數據穩定性良好：重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD ≤2.0%（大于3小時）。