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產品簡介
激光氣體分析儀，半導體激光器發射的激光譜寬小于0.0001nm，是紅外光源譜寬的1/106，遠小于紅外光源譜寬和被測氣體單吸收譜線寬度，其頻率調制掃描范圍也僅包含被測氣體單吸收譜線（半導體激光吸收光譜技術也因此被稱為單線光譜技術），因此成功消除了背景氣體交叉干擾影響。
詳細介紹
激光氣體分析儀產品特點：
不受背景氣體交叉干擾
半導體激光器發射的激光譜寬小于0.0001nm，是紅外光源譜寬的1/106，遠小于紅外光源譜寬和被測氣體單吸收譜線寬度，其頻率調制掃描范圍也僅包含被測氣體單吸收譜線（半導體激光吸收光譜技術也因此被稱為單線光譜技術），因此成功消除了背景氣體交叉干擾影響。
不受被測氣體環境參數變化干擾
被測氣體環境參數—溫度或壓力變化通常導致譜線強度和展寬發生變化，對溫度或壓力信號不加修正就會影響測量結果。而DLAS技術是對被測氣體單一吸收譜線進行分析，因此可較容易地對溫度、壓力效應進行修正。為此系統內置了溫度和壓力自動修正功能，能根據實際測量得到的被測氣體溫度和壓力對氣體成分測量值進行自動修正，從而可實現精確的在線氣體分析。
激光氣體分析儀參數：
技術指標 | |
量程 | 0-100%VOL |
線性誤差 | ≤±1%F.S./半年 |
量程漂移 | ≤±1%F.S./半年 |
重復性 | ＜1% |
防爆等級 | ExdIICT5 Gb |
預熱時間 | ≤15min |
響應時間（T90） | ≤1s |
模擬量輸出 | 2路4～20mA電流（隔離、最大負載750Ω） |
繼電器輸出 | 3路輸出（繼電器規格：24V，1A） |
模擬量輸入 | 2路4～20mA電流（溫度、壓力補償） |
通訊接口 | RS485/RS232 |
電源 | 24VDC（18～36VDC） |
功耗 | ＜20W |
環境溫度 | -30～80℃ |
儲存溫度 | -40～80℃ |
吹掃氣體 | 0.3～0.8MPa工業氮氣或凈化儀表氣等 |