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產品簡介
SU-8光刻臺式工作站涵蓋您在實驗室加工微流體模具所需要的一切組件，即使沒有超凈間，憑借該工作站，您也可以加工出來具有與超凈間相同的分辨率的模具。SU-8模具工作站可以縮短芯片加工的總時間。
詳細介紹
SU-8模具加工站是一個交鑰匙的產品，無需購買任何其他設備。基本上僅需要一個化學通風廚和少量的工作空間。我們也可以根據您實驗室內現有的設備來調整報價。
優勢&特點：
（1）為易用性設計，達到與超凈室相同的圖案分辨率
（2）易于通過面板或PC進行操作編程
（3）能夠設置多種加速度和速度的復雜序列
（4）無堵塞，延長使用壽命
（5）低振動，轉速高達12000 rpm
（6）提供晶圓對中工具
（7）即使沒有微流控加工的初步知識，也可以熟練的加工模具
包含的工作組件：
（1）可編程旋涂機
（1）可編程旋涂機
（2）可編程數碼電熱板
（3）可編程UV燈系統
包括所有化學藥品（SU-8，SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等）和所有實驗室配件（微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒等），以便為您提供完整的套件。
可編程旋涂機：適用于軟光刻應用的設備
該旋涂機結構緊湊，并且具有可編程功能。
它適用于直徑?150 mm的晶圓和5" × 5"（127 mm × 127 mm）的基板。
此旋涂機經過微調，可加工可控和可重復的SU-8光致抗蝕劑層。
其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設備實現真正的移動。該旋涂機已廣泛應用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進行動態SU-8涂覆。通過藍牙輕松連接到您的PC，您可以保存并命名您的實驗配方。
主要優勢：
（1）為易用性設計
（2）易于通過操作面板或PC進行編程
（3）能夠設置多種加速度和速度的復雜序列
（4）無堵塞，延長使用壽命
（5）低振動
（6）轉速高達12000 rpm
（7）提供晶圓對中工具
可編程數碼電熱板：適用于軟光刻應用的設備
確保準確、均勻且穩定的溫度設定點。該數字式熱板設備可設置溫度斜坡以進行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松，這些控件可以實現光刻過程的自動化。
可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠寬的區域，溫度均勻，可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內部的機械應力。可編程工具可進行長時間的光刻膠烘烤，而無需停留在設備的面。
主要優勢：
（1）加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
（2）4英寸晶圓的高溫均勻性
（3）微處理器顯示屏保持溫度恒定
（4）小溫度超調
（5）自動計時器
（6）光滑的鋁板，易于清潔光刻膠
可編程UV燈系統：適用于軟光刻應用的設備
*的UV LED曝光和遮罩系統（可選），具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統，能夠對直徑大為4英寸的晶圓表面積進行曝光。該自動UV曝光系統與硬（物理）或軟（接近）掩膜觸點兼容，并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。
該UV曝光系統具有2μm的分辨率，特別適合軟光刻應用。閃光曝光可以減少光刻膠的內部機械應力。其體積小巧，可將其安裝在所需的任何位置，尤其是在潔凈室之外。
主要優勢：
（1）晶圓表面上方的wan美單色曝光（帶寬低于10 nm）
（2）冷紫外線
（3）光線發散角＜2°
（4）強大的功率密度
（5）LED使用壽命長：超過1萬小時，相當于8-10年的使用時間
（6）用戶友好的觸摸屏界面，可進行曝光周期編程
（7）無需預熱時間
（8）直觀的UV光源強度控制
（9）自動化晶圓加載和卸載系統
（10）可與玻璃和塑料光罩一起使用
（11）在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
（12）集成紫外線儀表
更多內容：
自動匹配您實驗室現有設備的報價！
由于每個實驗室都是不同的，因此，每個研究都是*的，所以我們會根據實際需求盡可能地調整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設備，從而增加或刪除設備、配件、化學品等等。
包括所有化學藥品（SU-8，SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等）和所有實驗室配件（微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒等），以便為您提供完整的套件。
可編程旋涂機：適用于軟光刻應用的設備
該旋涂機結構緊湊，并且具有可編程功能。
它適用于直徑?150 mm的晶圓和5" × 5"（127 mm × 127 mm）的基板。
此旋涂機經過微調，可加工可控和可重復的SU-8光致抗蝕劑層。
其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設備實現真正的移動。該旋涂機已廣泛應用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進行動態SU-8涂覆。通過藍牙輕松連接到您的PC，您可以保存并命名您的實驗配方。
主要優勢：
（1）為易用性設計
（2）易于通過操作面板或PC進行編程
（3）能夠設置多種加速度和速度的復雜序列
（4）無堵塞，延長使用壽命
（5）低振動
（6）轉速高達12000 rpm
（7）提供晶圓對中工具
可編程數碼電熱板：適用于軟光刻應用的設備
確保準確、均勻且穩定的溫度設定點。該數字式熱板設備可設置溫度斜坡以進行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松，這些控件可以實現光刻過程的自動化。
可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠寬的區域，溫度均勻，可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內部的機械應力。可編程工具可進行長時間的光刻膠烘烤，而無需停留在設備的面。
主要優勢：
（1）加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
（2）4英寸晶圓的高溫均勻性
（3）微處理器顯示屏保持溫度恒定
（4）小溫度超調
（5）自動計時器
（6）光滑的鋁板，易于清潔光刻膠
可編程UV燈系統：適用于軟光刻應用的設備
*的UV LED曝光和遮罩系統（可選），具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統，能夠對直徑大為4英寸的晶圓表面積進行曝光。該自動UV曝光系統與硬（物理）或軟（接近）掩膜觸點兼容，并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。
該UV曝光系統具有2μm的分辨率，特別適合軟光刻應用。閃光曝光可以減少光刻膠的內部機械應力。其體積小巧，可將其安裝在所需的任何位置，尤其是在潔凈室之外。
主要優勢：
（1）晶圓表面上方的wan美單色曝光（帶寬低于10 nm）
（2）冷紫外線
（3）光線發散角＜2°
（4）強大的功率密度
（5）LED使用壽命長：超過1萬小時，相當于8-10年的使用時間
（6）用戶友好的觸摸屏界面，可進行曝光周期編程
（7）無需預熱時間
（8）直觀的UV光源強度控制
（9）自動化晶圓加載和卸載系統
（10）可與玻璃和塑料光罩一起使用
（11）在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
（12）集成紫外線儀表
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自動匹配您實驗室現有設備的報價！
由于每個實驗室都是不同的，因此，每個研究都是*的，所以我們會根據實際需求盡可能地調整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設備，從而增加或刪除設備、配件、化學品等等。
微流控芯片PDMS加工實驗室空間方案圖
