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VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀 參考價：面議
VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介...
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
小型高能直流磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面...
高真空磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
單靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、...
VTC-600G高真空磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄...
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發鍍膜儀 參考價：面議
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發鍍膜儀是一套可實現射頻磁控濺射和蒸發鍍膜功能的系統，包含射頻電源、溫控型蒸發鍍膜模塊、真空系統，水冷設備，磁控濺射靶頭，不銹鋼...
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導...
3靶等離子濺射儀 參考價：面議
VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50...
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個...
濺射蒸發一體機 參考價：面議
VTC-180EVS濺射蒸發一體機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。
磁控濺射卷繞鍍膜機 參考價：面議
產品簡介：磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設備采用*的磁控濺射鍍膜技術，配備直流、...
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統 參考價：面議
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統可在手套箱內進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
小型粉末PVD包覆系統 參考價：面議
小型粉末PVD包覆系統VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進行包覆形成...
不銹鋼彎頭 參考價：面議
不銹鋼彎頭共2個接口，兩接口為90°垂直且共面分布，主要用于連接真空腔室與相關配件。
GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜（如金、鉑、銦、銀等）而設計，Z大放置樣品尺寸直徑為40mm，膜厚可達300Å，...
四通閥 參考價：面議
四通閥包含3個接口、1個閥門，呈垂直且共面分布，其中2個KF40接口、1個KF25接口（可根據用戶要求改制），主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規管，如磁控濺射...
密封裝置 參考價：面議
密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件，安裝孔徑為19.2mm。
加熱臺 參考價：面議
加熱臺主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀的樣品臺的加熱。
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