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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 全封閉式桌面顯影機

    DM200-SE全封閉式桌面顯影機的特點包括：全封閉式顯影：有效避免顯影過程中產生的霧氣擴散到外部，從而保護環境免受污染。外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐...
    型號： DM200-SE 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:06:14 對比

  • 手動光刻機

    MS6-CA手動光刻機是一款高性能的精密加工設備，專為微電子、半導體、光電等領域的研發與生產設計。
    型號： MS6-CA 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:00:34 對比

  • 高溫型烤膠機

    HP100-HT-CTM高溫型烤膠機，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
    型號： HP100-HT-... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:58:18 對比

  • 有掩膜光刻機

    VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業設計的最大的系統。它是平板...
    型號： VPG 800 /... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:56:11 對比

  • 精密型烤膠機

    HP6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
    型號： HP6 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:49:55 對比

  • 程控烤膠機

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質陽極氧化鋁面板，優異性能，專業服務，實驗理想之選。
    型號： HP100-SE標... 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:45:23 對比

  • 投影掃描光刻機

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐DSC300投影掃描光刻機。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數的產能，并達到解析度（ 2 μm）的分辨...
    型號： DSC300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:41:10 對比

  • 控溫型勻膠機

    控溫型勻膠機，性能優秀，專業服務，高品質材料，安全設計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器領域的優選產品。
    型號： IC8000-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:39:31 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-S-PP勻膠機，伺服驅動，PLC控制，7寸觸屏，真空可調，支持加熱，工業級應用，處理基片能力強。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機的核心特性與...
    型號： AC200-S-P... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:35:09 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-SE程控伺服勻膠機，高精度伺服驅動，PLC智能控制，7寸觸屏操作，耐溶劑材質，適用于多種工業應用。
    型號： AC200-SE標... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:27:39 對比

  • 小巧型勻膠機

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機，小巧耐腐蝕，適用于手套箱內，液晶顯示，程序可調，支持4寸底物，鋁合金/PP外殼可選。
    型號： EZ4-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:26:01 對比

  • 紫外臭氧清洗機

    這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統，人性化設計，便捷高效，質量有保障，專業服務，是科研與實驗的理想伙伴。
    型號： UC100-SE 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:19:40 對比

  • 等離子清洗機

    LEBO science的PT500真空等離子清洗機，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點：設備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
    型號： PT500 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:11:22 對比

  • 掩模對準光刻機

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機。化合物半導體工藝，是指諸如高亮發光二極...
    型號： MA100/150... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:44:22 對比

  • 掩模對準光刻機

    MA200 3代掩模對準光刻機專為大批量生產而設計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工。本系統集全場光刻技術與多種創新功能于一身。使其成為眾多應用的...
    型號： MA200 Gen... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:16:08 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-HAYATE是由ELIONIX研發的超高吞吐量電子束光刻機，提供業界大的 5 毫米偏轉。非常適合需要關注字段間拼接錯誤的應用。
    型號： ELS-HAYAT... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:12:29 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN是由ELIONIX開發的電子束光刻機，非常適合研究和開發！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。
    型號： ELS-BODEN 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:10:56 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN Σ這是ELONIX自創業以來多年來一直致力于開發的新型號的電子束光刻機。 采用模塊系統，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構和防振臺，為...
    型號： ELS-BODEN... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:07:35 對比

  • 掩模對準光刻機

    掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:53:37 對比

  • 涂膠和顯影機

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機是創新組件和經過生產驗證的組件結合的成功結果。它具有多達 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產 （...
    型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:45:12 對比
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