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普泰克(上海)制冷設(shè)備技術(shù)有限公司
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首頁 >> 技術(shù)文章 >> 普泰克-半導(dǎo)體高溫測(cè)試技術(shù)參數(shù)
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中高溫測(cè)試:125-175℃(消費(fèi)電子、工業(yè)控制);
高溫可靠性測(cè)試:175-250℃(汽車電子、航天)。
基礎(chǔ)范圍:通常覆蓋 -55℃(低溫輔助)至 + 250℃,特殊場(chǎng)景(如汽車發(fā)動(dòng)機(jī)艙、航空電子)需擴(kuò)展至 +300℃甚至 + 400℃(如 SiC 功率器件)。
典型分區(qū):
控制精度:≤±1℃(基礎(chǔ)測(cè)試),可靠性測(cè)試需 ±0.5℃(避免溫度波動(dòng)導(dǎo)致參數(shù)漂移誤判)。
溫區(qū)均勻性:測(cè)試腔內(nèi)任意兩點(diǎn)溫差 ≤2℃(針對(duì)多樣品并行測(cè)試,確保樣品受力一致),采用熱風(fēng)循環(huán)或紅外加熱實(shí)現(xiàn)均勻控溫。
升溫速率:5-10℃/min(常規(guī)測(cè)試),快速熱沖擊測(cè)試可達(dá) 20℃/min(模擬溫度變化)。
降溫速率:3-5℃/min(自然冷卻)或強(qiáng)制風(fēng)冷 / 水冷(10℃/min),需避免速率過快導(dǎo)致器件熱應(yīng)力開裂(尤其陶瓷封裝器件)。
大氣環(huán)境:默認(rèn)空氣氛圍(適用于非敏感器件);
惰性氣體保護(hù):對(duì)易氧化器件(如 GaN、SiC),需通入氮?dú)猓兌取?9.999%)或氬氣,氧含量控制在 ≤10ppm,防止高溫下金屬電極氧化。
濕度控制:部分測(cè)試(如高溫高濕偏壓測(cè)試)需控制濕度 30-90% RH(配合溫度 85-150℃,模擬濕熱環(huán)境)。
電壓:測(cè)試范圍 0-1000V(覆蓋芯片工作電壓 VDD 至擊穿電壓 BV),精度 ±0.1%FS(滿量程),分辨率≤1mV(適用于低電壓器件如 MCU)。
電流:測(cè)試范圍 1nA-100A(涵蓋漏電流至工作電流),精度 ±0.5%FS,分辨率≤1pA(關(guān)鍵參數(shù)如 MOSFET 的柵極漏電流 Igss)。
頻率:針對(duì)高頻器件(如射頻芯片),測(cè)試頻率覆蓋 1kHz-10GHz,精度 ±0.1%(避免高溫對(duì)寄生參數(shù)的影響誤判)。
晶體管(MOSFET/BJT):閾值電壓 Vth、導(dǎo)通電阻 Rds (on)、擊穿電壓 BVdss、漏電流 Idss;
芯片(MCU/IC):靜態(tài)電流 Iddq、動(dòng)態(tài)功耗、時(shí)序延遲、邏輯功能(高溫下是否出現(xiàn)邏輯翻轉(zhuǎn));
傳感器:靈敏度、線性度、零點(diǎn)漂移(如高溫壓力傳感器的輸出偏差)。
施加電壓 / 電流:通常為器件額定值的 80%-120%(模擬重載或極限工作狀態(tài)),如 VDD=3.3V 的芯片,高溫偏置可能設(shè)為 3.6V(110% 額定值)。
偏置方式:直流偏置(靜態(tài)測(cè)試)或脈沖偏置(動(dòng)態(tài)測(cè)試,避免偏置功耗導(dǎo)致器件自熱,干擾環(huán)境溫度)。
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