| 產地類別 |
進口 |
應用領域 |
環保,化工,電子/電池,綜合 |
日本ULVAC愛發科小型高頻濺射設備
帶 RF 電源的小型高頻濺射設備。
由于具有金屬、半導體和絕緣體的沉積能力，因此非常適合基礎研究和開發實驗。
日本ULVAC愛發科小型高頻濺射設備
日本ULVAC愛發科小型高頻濺射設備
特征
它是絕緣體、金屬和半導體材料的濺射系統。
渦輪分子泵用于主泵送。
直徑為 2 英寸，3 個陰極可進行多次沉積。
磁控濺射可實現濺射速度 30nm/min （SiO2）。
它具有基板加熱系統（350°C）。
規范
| 型 | VTR-151M/SRF （SCOTT-C3） |
| 真空性能 | 極限壓力 | 6,6×10-4帕 |
| 疏散時間 | 6,6×10-3帕/5分鐘 |
| 真空室 | 真空室 | 金屬腔室 （直徑 310.5mm × 160mm （H）） |
| 陰極 | 直徑 2 英寸，3 路 |
| 標準目標 | 直徑 2 英寸（直徑 50.8 毫米）× T1mm ×T1 毫米 |
| 濺射有效面積 | 25 毫米 |
| 濺射速度 | SiO2 SiO2，沉積時超過 30nm/min |
| 膜厚分布 | SiO2 SiO2，直徑 25mm 時 ±10% 以內 |
| 基板加熱溫度 | 最高 350°C |
| 最高 350 攝氏度 | 50mm ~ 90mm （可變：半固定） |
| 排氣系統 | 主泵 | 渦輪分子泵 250 L/sec |
| 液氮捕集阱 | ー |
| 副泵 | 油旋轉泵200L/min |
| 油霧捕集器 | 油霧捕集器 OMT-200A |
| 作系統 | 主閥 | 蝶閥 |
| 副閥 | 三通閥 |
| 自動泄漏閥 | 選擇 |
| 控制 | 手動控制 |
| 控制系統 | 射頻電源 | 最大 300W （0~300W 可變） |
| 皮拉尼真空計 | GP-1GRY 系列 |
| 電離真空計 | 編號：ISG1/SH2-1 |
| 設置 | 外部尺寸 | 1081 毫米（寬）×853 毫米（深）×1104 毫米（高） |
| 重量 | 400 公斤 |
效用
| 型 | VTR-151M/SRF （SCOTT-C3） |
| 所需功率 | 200V 單相 50/60Hz 3.5kVA |
| 接地端子 | A 級（接地電阻/10Ω以下） |
| 需水量 | 2.0 L/min（水溫 ： 25°C以下、水壓 ： 200kPa（表壓）） |
| 連接（電源） | 乙烯基電纜（帶 R3.5-5 環形舌片端子）4m |
| 連接（接地） | 接地線（帶 R5.5-8 環形舌片端子） 4m |
| 連接（水管） | Tetoron 編織軟管 （外徑 15mm × 內徑 9mm） 4m （2 列） |
尺寸圖
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