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寫真化學厚度監視器評估多晶硅的結晶度
  • 寫真化學厚度監視器評估多晶硅的結晶度
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貨物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新時間：2024-11-02 14:44:31

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反射涂層厚度監測儀是一種光學干涉反射光譜涂層測厚儀，它使用微型反射探頭，可應用于從實驗室級別到生產過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性，可用于集成到工藝設備和生產線管理應用中。

反射涂層厚度監測儀是一種光學干涉反射光譜涂層測厚儀，它使用微型反射探頭，可應用于從實驗室級別到生產過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性，可用于集成到工藝設備和生產線管理應用中。
最多可同時測量 9 種類型的透明膜。
它具有出色的可維護性，可用作工藝設備或生產線管理應用的集成。
例如，在沉積、拋光和蝕刻過程中，它可以用作在線監視器或終點監視器（終點檢測傳感器），從而實現薄膜厚度的實時監控（實時監控）。
它還可用于評估多晶硅的結晶度和多孔薄膜的密度。

  • 多晶硅結晶度的評價

  •  

  • 多孔膜的密度評估

  •  

  • 使用旋涂機進行終點檢測的視頻



    • 微型光纖探頭

    • 通過采用高度為 30 mm 的小探頭，它可以安裝在設備的狹小空間內。


    • 膜厚測量再現性：0.1 nm 或更小 （3σ）


    • 同時測量多層薄膜，9 層


    • 通過有效介質近似 （EMA） 方法計算混合層的混合速率，并測定結晶度

    • 光學常數分析

    • 膜質量分析功能



    • 可根據用途選擇的光源


    • 自動映射測量（可選）

    • 操作示例1：Endpoint Monitor
      的Demo 1操作示例2：Endpoint Monitor的Demo 2


    • 自動映射測量（可選）

推薦環境條件

溫度： 設定點在 18 ~ 45°C 范圍內
長期變化： ±2.0°C/24 小時或更長時間（參考設定點）
短期變化： ±1.0°C/1 小時×1 周期（參考設定點）
濕度：45% ± 20%（無冷凝）



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