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寫真化學通過顯微圖像光譜測厚儀
  • 寫真化學通過顯微圖像光譜測厚儀
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貨物所在地:北京北京市

地: 日本

更新時間:2024-11-02 16:24:37

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寫真化學通過顯微圖像光譜測厚儀

由于薄膜厚度是通過光學干涉法計算的,因此
薄膜厚度分布可以以 0.1 nm 或更低的分辨率以 3D 形式顯示



    • 在顯微鏡視場中測量任意區域的薄膜厚度和薄膜質量分布
      ,并以 3D 形式顯示分布

    • 薄膜厚度分布的原位可視化



    • 分辨率與可見光波長光學涂層測厚儀相當

    • 波長范圍從 450 nm 到 750 nm,可以 1 nm 的增量

    • 膜厚測量分辨率:0.1 nm 或更小



    • 使用與反射膜厚度監視器相同的計算引擎進行并行計算

    • 高速、多層同時測量 9 層

    • 應用實例

    1. (1) 數百層重復層壓薄膜和溝槽等復合結構

    2. (2) 用 EMA(有效介質近似)法估計亞微米圖案的密度

    3. (3) 局部結晶度評估


    • 您可以根據工件和應用選擇物鏡

    • 通過物鏡和面積規格測量任意面積的膜厚分布


    設備配置

    設備配置


    圖像測量方法的優勢

    圖像測量方法的優勢

    測量目標

    • 半導體
      半導體

    • 太陽能電池
      太陽能電池

    • 平板顯示器
      平板顯示器

    • 玻璃(涂層)和薄膜
      玻璃(涂層)和
      薄膜

    薄膜干涉原理

    薄膜干涉原理

    膜厚測量的原理

    膜厚測量的原理




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