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森泰克刻蝕機Etchlab 200 適用于氟基氣體以及氧氣、氬氣等工藝氣體，具有非常高的工藝穩定性和重復性。升級增加預真空室后，可使用氯基氣體、完成金屬、化合物...
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500干法刻蝕系統廣泛應用于半導體制造、微納加工、MEMS制造等領域。它可以用于刻蝕多種材料，包括但不限于三五族化合物半導體（如...
日本傾斜角RIE等離子蝕刻機的簡介：日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優點。Etchlab2...
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