IPB 2011 第九屆粉體工業(yè)/散裝技術展覽會暨會議
時間：2011年9月27-29日
地點：上海展覽中心
地址：上海市興義路77號
公司展位號1211，屆時將攜干法激光粒度儀HELOS/RODOS（測試范圍0.1-3500μm）、動態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC（測試范圍1-20000μm）、納米激光粒度儀NANOPHOX（測試范圍1-10000nm），并有中國工程師在現(xiàn)場為您做的介紹與解答。
德國新帕泰克的干法粒度儀HELOS/RODOS，以其“干樣干測”、“瞬時分散，瞬時測量”的優(yōu)勢，廣泛以用于粉體行業(yè)的粒度分析與測量，具有分散效果好、測試速度快、性與精度高等優(yōu)點。
動態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎上，提供粒形信息，為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度、長寬比、纖維長度等更多參數(shù)的信息。
納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影響，測試濃度高，性好，同時提供穩(wěn)定性分析，是分析納米粉體的*選擇。
儀器詳細參數(shù)請參見我公司產(chǎn)品介紹，誠摯歡迎各界人士的蒞臨展位交流！
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