我們的競爭對手喜歡想方設法讓他們的產品看起來比我們的性能更好。 最近，我們收到了一些關于 QUV 輻照度均勻性的問題，因為我們的競爭對手發布了他們的熒光 UV 測試儀輻照度均勻性參 數。

他們聲稱，他們的熒光紫外線測試儀”在樣本表面的輻照度均勻度為   4%”。

但是 “ Over the Surface of the sample” 是什么意思?

我們的 競爭對 手喜 歡吹噓 他們 4%的 “ 輻照度 均勻 性”規 范， 但他們 傾向于 淡化 4%的實 際含 義。首 先，他們 使用了 不正確 的術語 。他們 要么說 一致性是 96 %，要 么說非 一致性 是 4%。其 次，這 個值不 是整個腔 室的均 勻性， 甚至也 不是腔 室某一 側的均 勻性。 它只是 說，在 6.35 × 9.53 厘米 (2.5 × 3.75 英寸)的面積上，輻照度不均勻性為 4%。這種 說法誤 導了很 多客戶 。

再加上，樣品表面的均勻性對機械評價(如光澤或顏色)影響不大。在進行這些測量時，通常會對 標本的中心部分進行評估，因此外邊緣對測量的影響非常小。所以說真的，這是一個愚蠢的規 范，因為它對評估幾乎沒有影響。不管怎樣，我們在標本的表面上確實有相同的輻照度均勻 性，所以那里沒有問題。

那么 QUV  中真實的輻照度均勻度是多少?

雖然 QUV 樣品表面的輻照度均勻度與我們的競爭對手相似，但我們可以提供更多的信息。除了樣品 表面的均勻性外，當你排除設備邊緣的樣品支架時，我們可以擁有大于   90%的整體輻照度均勻性。

但 是 設備邊緣的 支架呢?

在 QUV 邊緣的輻照度均勻度 下降到 80%以下， 但這是基于 物理和幾何 的限制， 適用于所有 熒光紫外 測試儀。

熒光紫外線燈發出的光貫穿整個長度。標本的大部分光線來自燈的最近部分，但它們也暴露在來自標本 左側和右側的燈部分的光線下。

測試器左側的 樣品不會暴 露在來自 左側的光線 下，因為 燈不會進 一步延伸到 左側。同 樣，位于測 試儀 右側的標本也不會暴露在來自右側的光線下。圖  1   是這種效果的圖解演示。

圖 1:靠 近 燈端部的樣品被暴露在較低的輻照度下的示例

那 么 應 該 使用哪些 標本位置呢 ?

盡管 末端 位 置的 輻照 度略 低 ，但 我們 的 政策 是所 有 標本 位置 都 可以 使用 ，但 強 烈推 薦標 本 重新 定位 (參見 Q-Tip 21， “標本重 新定位是 最佳實踐 ”)。如果客 戶不想重 新定位標 本或要求 所有位置 的輻照 度均勻度為>90%， 那么他們可 以選擇將 末端的標本 夾留空。

溫 度均勻性如何?

我們最近也有一些關于 QUV 溫度 均勻 性的 問題。 通過 正確 的安 裝和樣 品安 裝， Q UV 內的 溫度 均勻 性非常好。

客戶 避免 在 末端 或標 本之 間 出現 任何 間 隙是 非常 重要 的 。這 些縫 隙 會導 致空 氣 沖出 腔室 ，從 而 導致 相鄰試樣冷卻，并在其他位置產生熱 點。

結論

當客戶要求 QUV 的一致性時，正確地提出這個問題是很重要 的。他們問的是輻照度還是溫度均勻 性?他們測量的均勻度是在哪個區域?我 們更喜歡使用箱體內輻照度均勻 度，而不是樣品表面的均勻度 ，這 在QUV  中是非常好的(>90%)。

雖然 QUV 輻 照度均勻性 很好，但 物理和幾 何定律限制 了燈具兩 端的輻照度 。我們建 議通過利 用標本 重新定位來克服這一限制，這也提高了水噴霧和溫度均勻  性。

最后，在進行溫度測量時，正確安裝標本支架是很重要的。有可能用來測量溫度的設備實際上降 低了測試儀的溫度均勻性!