支持半導體制造的超純水是什么？

清洗工序約占半導體制造工序的30%，采用“超純水”（UPW），最大限度地去除雜質(zhì)。

超純水是通過最大限度地去除天然水中的雜質(zhì)而得到凈化的水。自來水中含有溶解的各種物質(zhì)，包括鈣、鎂等礦物質(zhì)以及氯等消毒劑。這些雜質(zhì)會嚴重損害半導體制造等精密工藝中的產(chǎn)品質(zhì)量。

因此，在半導體制造等要求高純度的領域， 去除有機物、微粒、溶解氣體等，使離子更接近氫離子（H+）和氫氧根離子（OH-）。被使用。

半導體制造涉及一系列復雜的工藝，需要極其先進的技術。超純水是該制造過程的重要組成部分。

在半導體制造中，復雜的電路圖案形成在稱為硅晶片的薄板上。在此過程中，會進行各種處理，例如切割晶圓和注入雜質(zhì)。在這些處理之后，幾乎總是有一個清潔步驟。

該清洗過程使用超純水。超純水是最大限度去除雜質(zhì)的極其純凈的水。超純水之所以如此重要，是因為半導體電路極其微小，即使是最輕微的雜質(zhì)也會對產(chǎn)品性能產(chǎn)生重大影響。

超純水純度

超純水的純度高，與自來水相比差異明顯。經(jīng)過一些研究，我發(fā)現(xiàn)了一些有趣的例子，所以我想與大家分享。

例如，考慮 50 米游泳池的雜質(zhì)含量。

• 自來水：2至數(shù)桶

• 純凈水：1杯

• 超純水：1勺耳朵清潔水

這是超純水純度高的一個例子。這很容易想象。

如何制備超純水

為了生產(chǎn)超純水，有效去除水中所含的以下四種雜質(zhì)非常重要。

• 無機物質(zhì)：包括源自天然礦物質(zhì)的物質(zhì)，如鈣離子、鎂離子（硬度成分）、氯離子和重金屬離子，以及人工混合到水中的物質(zhì)。

• 有機物質(zhì)：種類繁多，包括植物來源的木質(zhì)素和腐植酸，生物來源的蛋白質(zhì)和核酸，以及殺蟲劑和合成洗滌劑等人工有機化合物。

• 細顆粒：含有肉眼看不見的細小顆粒，例如從土壤中浸出的顆粒以及水管腐蝕引起的鐵銹。

• 微生物：包括生活在水中的各種微生物，例如細菌、病毒和藻類。

這些雜質(zhì)各自具有不同的性質(zhì)，需要選擇最佳的處理方法來去除它們。目前的純水設備和超純水設備通過結(jié)合先進的分離技術去除這些雜質(zhì)來制造高純水。