隨著微電子、集成電路等領(lǐng)域的迅猛發(fā)展，光刻技術(shù)也在不斷革新。托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術(shù)，為我國微電子制造領(lǐng)域帶來了靈活性和效率。

無掩模光刻機，突破傳統(tǒng)束縛

與傳統(tǒng)有掩模光刻技術(shù)相比，托托科技的無掩模光刻機擺脫了實體掩模的限制，采用DMD（數(shù)字微鏡裝置）技術(shù)，實現(xiàn)了高精度、高效率的圖案化加工。這種技術(shù)不僅省去了制版的時間和成本，還為科研和生產(chǎn)帶來了極大的便利。

多型號選擇，滿足不同需求

托托科技針對不同應(yīng)用場景，推出了科研版、教育版、高速版等多款無掩模光刻機。科研版專注于高精度、高靈活性，適用于科學(xué)研究；教育版體積小巧，適合實驗課程；高速版則具備更快的加工速度，適用于小批量生產(chǎn)制造。這些產(chǎn)品滿足了不同用戶的需求，為我國微電子產(chǎn)業(yè)提供了有力支持。

技術(shù)創(chuàng)新，優(yōu)勢顯著

托托科技的無掩模光刻機具有以下優(yōu)勢：無需掩模版的靈活性、高加工精度（可達400 nm）、高速度（可達1200 mm2/min）以及大加工幅面（可達2 m2）。此外，4096階的灰度光刻能力，使得光刻機能夠構(gòu)建出高度復(fù)雜且細膩的微觀結(jié)構(gòu)或圖案。

廣泛應(yīng)用，推動產(chǎn)業(yè)發(fā)展

無掩模光刻機在二維材料、微流控、MEMS、微透鏡、光學(xué)衍射器件、浮雕結(jié)構(gòu)、超表面、量子光學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。這些應(yīng)用不僅體現(xiàn)了托托科技產(chǎn)品的多樣性，也推動了相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

托托科技，致力于技術(shù)創(chuàng)新

作為一家技術(shù)驅(qū)動型企業(yè)，托托科技始終專注于精密光學(xué)儀器的研發(fā)制造。公司以技術(shù)和細致設(shè)計造就品質(zhì)，以耐心服務(wù)和企業(yè)擔(dān)當贏得良好口碑。無掩模光刻機作為公司的核心產(chǎn)品之一，將繼續(xù)光刻技術(shù)革新，為我國微電子產(chǎn)業(yè)貢獻力量。

托托科技的無掩模光刻機憑借其技術(shù)和性能，已成為微電子、集成電路等領(lǐng)域的重要工具。在未來的發(fā)展中，托托科技將繼續(xù)創(chuàng)新，為我國光刻技術(shù)的發(fā)展貢獻力量。

托托科技的無掩模光刻機產(chǎn)品亮點介紹：

 高速版無掩模光刻機                                  教育版無掩模光刻機

               科研版無掩模光刻機                                    生命科學(xué)領(lǐng)域無掩模光刻機