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掃描電鏡(SEM)成像原理全解析:電子束與樣品如何“對話”?

來源:賽非特科學儀器(蘇州)有限公司   2025年07月08日 11:57  
  掃描電鏡(SEM)的成像核心在于電子束與樣品的動態“對話”,這一過程通過電子-物質相互作用實現,最終將微觀形貌轉化為可視化圖像。
  電子束的生成與聚焦
  電子槍是電子束的源頭,其類型直接影響成像質量。熱發射電子槍通過加熱鎢絲產生電子,而場發射電子槍利用強電場直接從金屬抽取電子,可形成直徑僅0.4-2納米的超細束斑,使分辨率接近原子尺度。電子束經兩級電磁透鏡聚焦后,在樣品表面形成納米級掃描點,加速電壓(0.1-30kV)則決定電子能量,高電壓可穿透更厚樣品,低電壓則增強表面敏感度。
  電子與樣品的“對話”機制
  當電子束轟擊樣品表面時,發生兩類關鍵相互作用:
  彈性散射:電子與原子核碰撞后改變方向但能量損失極小,產生背散射電子(BSE)。其產額與原子序數正相關,因此BSE圖像可反映樣品成分分布,如金屬顆粒在聚合物基體中的分散狀態。
  非彈性散射:電子與原子外層電子碰撞導致能量損失,激發出二次電子(SE)和特征X射線。SE能量極低(1-15eV),僅來自樣品表層5-10納米,是表面形貌成像的核心信號;特征X射線則攜帶元素特征信息,通過能譜儀(EDS)可實現微區成分定量分析。
  信號收集與圖像重建
  樣品上方配置的探測器陣列實時捕獲散射信號。SE探測器通常位于樣品側上方,以大化收集效率;BSE探測器則安裝在更高角度,強化成分對比。計算機同步控制電子束掃描軌跡與信號采集,將每個掃描點的信號強度轉換為灰度值,最終拼接成高分辨率圖像。例如,在觀察鋰電池電極材料時,SEM可同時呈現活性顆粒的裂紋形貌(SE圖像)與導電劑分布(BSE圖像),為失效分析提供雙重維度數據。
  真空環境的必要性
  樣品室需維持高真空(10?³-10??Pa),避免電子束與氣體分子碰撞導致信號衰減。對于含水生物樣品或非導電材料,需采用環境掃描電鏡(ESEM)或鍍膜處理(如噴金、噴碳),以平衡信號質量與樣品完整性。
  動態成像與多模態拓展
  現代SEM已突破靜態成像局限。通過原位加熱/冷卻臺,可實時觀察材料相變過程;結合電子背散射衍射(EBSD),可同步獲取晶體取向信息;與拉曼光譜聯用,則能實現形貌-成分-結構的三維表征。這些技術融合使SEM成為材料科學、生物醫學等領域的“微觀之眼”。

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