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高溫樣品臺是一種能夠在高溫環境下穩定支撐并加熱樣品的實驗設備，廣泛應用于材料科學、化學、物理及地質礦物等領域，其核心功能是通過精準控溫實現樣品在高溫條件下的性能表征與過程觀測。
一、技術參數：溫度范圍與精度是核心指標
溫度范圍
常規高溫樣品臺工作溫度覆蓋室溫至1500℃，如真空高溫熱臺采用鉑金絲加熱單元與藍寶石樣品片，可實現1500℃高溫加熱，適用于陶瓷燒結、金屬相變等**條件研究。
部分設備通過模塊化設計擴展溫度下限，如QSense®高溫樣品臺通過外部加熱器/冷卻裝置，將溫度范圍擴展至4-150℃，滿足低溫相變研究需求。
控溫精度
設備溫度穩定性達±1℃，如真空高溫熱臺配備中心孔熱電偶實時校準溫度，確保金屬相變、高分子材料熱行為等實驗的準確性。
部分設備支持程序升溫與恒溫保持，如選配計算機控制系統的真空高溫熱臺，可實現復雜溫控流程，適應材料合成與退火工藝。
二、結構設計：模塊化與安全性并重
加熱單元設計
核心加熱元件采用耐高溫材料，如真空高溫熱臺使用鉑金絲纏繞陶質杯，具備抗氧化特性；TEM固體超高溫加熱樣品臺采用鎢絲加熱元件，可承受1500℃以上高溫。
樣品臺配置藍寶石載物片或陶瓷基板，如φ7mm藍寶石載物片配合光學系統適配最小工作距離6.0mm的物鏡，確保高溫下顯微觀測清晰度。
防護與安全機制
雙層水冷防護系統保護鏡頭及操作人員安全，如真空高溫熱臺工作溫度超過500℃時自動啟動冷卻。
氣密樣品腔室支持10?³mbar真空度與保護性氣體環境，防止樣品氧化，適用于惰性氣體環境下的合金高溫相變研究。
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