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電子廠超純水制備除硼樹脂的核心特性

來源:科海思(北京)科技有限公司湖北分公司   2025年07月28日 13:56  

除硼樹脂的核心特性與除硼機理介紹

 

高選擇性吸附

   官能團設計:基于 胺聚羥基(Poly hydroxy amine) 官能團,通過多羥基與硼酸根離子形成穩定的五元/六元環狀絡合物,實現硼的特異性吸附,不受常見離子(如Na?、Ca2?、SO?2?等)干擾。

PH依賴性:較佳吸附pH為 堿性環境(pH>9),此時硼以B(OH)??形式存在,絡合效率高;酸性條件(pH<7)則利于再生時解吸。

 

性能參數

參數數值說明
平衡硼吸附容量5.7 meq/mL(約62 mg/mL)顯著高于普通樹脂15
工作溫度上限80℃適用高溫工況
粒徑范圍0.3–1.2 mm保證水流阻力與接觸效率
出水硼濃度可降至5 ppt(ng/L)級別滿足半導體超純水要求46

二、應用場景與典型案例

 

半導體超純水制備

必要性:硼會改變硅晶體的電學性質,干擾芯片摻雜工藝,導致閾值電壓漂移和良率下降4

案例:某芯片廠采用 "RO→除硼樹脂柱→EDI→拋光混床" 工藝,將原水硼濃度從440 ppt降至5 ppt。

核電站冷卻水處理

用于維持硼濃度低于0.1 ppm,防止硼酸沉積影響反應堆安全運行。

其他領域

海水淡化:深度脫硼保障飲用水合規(歐盟標準≤1 mg/L)。

鹽湖提鋰:去除鹵水中硼雜質,提升鋰鹽純度。


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三、關鍵操作注意事項

 

系統設計與運行控制


位置安排:建議置于RO系統后、EDI或混床前,以便調節pH至堿性(通常加NaOH至pH 9.5–10.5)。

流速控制:較佳空床接觸時間(EBCT)對應流速≤20 BV/h,避免穿透。

再生與維護

再生劑:4% HCl或H?SO?溶液,酸性條件破壞硼絡合物。

再生步驟:酸洗→慢沖洗→堿轉型(恢復OH?型)→終沖洗,需清除殘留再生劑。

壽命管理:定期監測出水硼泄漏,典型使用壽命2–3年,受進水有機物/懸浮物影響。


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四、對比優勢總結

優勢實際價值
抗離子干擾高鹽水中仍保持高效吸附(如海水、鹵水)
經濟性可再生重復使用,降低長期成本
環保性物理吸附替代化學沉淀,減少二次污染









電子廠超純水制備除硼樹脂的核心特性

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