SD-650MH磁控濺射鍍膜機

類型：桌面型 （包含工作臺搭建）                                                           儀器主機含腔體總高≥490mm）          

★（2）定制化真空工作腔室接口。金屬腔體：直徑≥260mm×高270mm（外尺寸 ） ， 直徑≥210mm×高270mm（內尺寸）。

★（3）控制方式：配置VPI定制化液晶控制系統，可實現雙屏分控。可智能控制系統操作，控制電流電壓等。 啟動功率 ：≥3KW                    

（4）靶頭：磁控雙靶，磁控靶配有擋板結構。可濺射儀強磁性材料。各靶可獨立/共同工作，采用磁控靶從上向下濺射鍍膜；                                            靶材尺寸：直徑≥50mm 。  

  靶材料： 配備直徑不低于50mm×3mm的銅靶。

（5）膜厚儀:配備膜厚儀監控范圍0～6000納米。可監控速率0.001納米/秒。與觸摸屏程序操作相結合，可聯動控制，監測膜厚，液晶觸摸屏膜厚儀可選擇各靶材定制系數、密度，預置≥257種鍍膜材料，可新增自定義材料。  

★（6）氣路：氣路可以通過電磁流量閥觸摸屏與手動閥聯動控制 。                                  

（7）真空系統：分子泵+直聯高速旋片式真空泵，抗沖擊渦輪分子泵，抽速≥ 300L/s ，一鍵泄真空。                      

（8）前級機械泵：抽速≥ 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 .                   

（9）真空測量：采用復合真空計監測真空 

（10）樣品臺：可旋轉，轉速可調。                                          

★（11）極限真空度: ≥5×10^-5Pa                                                     

（12）電氣柜：標配直流恒流電源：輸入電壓：220V 輸出電壓：0-600v                                   輸出電流：0-1.6A ，射頻功率電源：功率≥300W，配射頻匹配器。                                                          

★（13）工作氣體為Ar等惰性氣體，設備應配備氣瓶及減壓閥。                                              

（14）水冷：自循環冷卻水機 

（15）電源電壓：380V/220V                                                                                                 

（16）均勻性：靶材均勻度直徑50mm內，金屬類膜厚均勻度可達±3%

（17）可鍍材料：鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

品牌                        博遠微朗（北京）技術發展有限公司                                           

名稱                        磁控濺射鍍膜機                                                                   

型號                        SD-650MH                                                                   

儀器主機尺寸:               長610mm×寬420mm×高220mm（注：含腔體總高490mm）                           

工作腔室尺寸：              金屬腔體：直徑260mm×高500mm（外尺寸 ）                                    

                                      直徑210mm×高270mm（內尺寸）                                     

靶頭：                      單靶（可選配雙靶）                                                         

靶材尺寸：                  直徑50mm×厚3mm（因靶材材質不同厚度有所不同）                              

靶材料：                    標配一塊直徑50mm×3mm的銅靶及直徑50mm×3mm的鋁靶                           

靶槍冷卻方式：              水冷                                                                        

極限真空度:                 5×10^-5Pa（10分鐘可到5×10^-3Pa）                                            

電源：        直流恒流電源：輸入電壓：220V                                                             

                            輸出電壓：0-600v                                                            

                            輸出電流：0-1.6A                                                            

             射頻電源和匹配器：功率500W。                                                                

載樣臺：                    直徑200mm                                                                    

工作氣體：                  Ar等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）                                           

氣路：                      氣路可以通過電磁流量閥與手動閥聯動控制。                                     

水冷：                      自循環冷卻水機                                                                

膜厚儀                      實時監測，VPI觸摸屏控制                                                       

可鍍材料：                  鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等                                                                

電源電壓：                  220V 50Hz                                                                    

啟動功率                    3KW