化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>掩模版和中間掩模版制造設(shè)備>掩模光刻膠處理及清洗設(shè)備>mr-NIL212FC 德國(guó)納米壓印光刻膠
mr-NIL212FC 德國(guó)納米壓印光刻膠
- 公司名稱(chēng) 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 Micro Resist
- 型號(hào) mr-NIL212FC
- 產(chǎn)地 德國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/7/2 15:14:59
- 訪問(wèn)次數(shù) 180
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勻膠機(jī)，光刻機(jī)，顯影機(jī)，等離子清洗機(jī)，紫外臭氧清洗機(jī)，紫外固化箱，壓片機(jī)，等離子去膠機(jī)，刻蝕機(jī)，加熱板
納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命
——來(lái)自德國(guó) micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)
核心優(yōu)勢(shì)
? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)（ISO 9001 & 14001）
應(yīng)用領(lǐng)域：
l光子學(xué)（超表面、光柵、AR/VR）
l下一代電子器件（納米線、MEMS）
l生命科學(xué)與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）
明星產(chǎn)品系列
1. UV-NIL 光刻膠
產(chǎn)品型號(hào) | 核心特性 | 適用場(chǎng)景 |
mr-NIL210 | 專(zhuān)為 PDMS 類(lèi)柔性印章優(yōu)化，極薄殘膠控制（<10nm），高均勻性 | 柔性基底、曲面壓印、快速量產(chǎn) |
mr-NIL212FC | 兼容低強(qiáng)度光源（<40>2（SiO?），適合精密金屬蝕刻 | 納米電子、金屬納米結(jié)構(gòu)制造 |
mr-NIL200 | 自粘附配方，無(wú)需底涂，專(zhuān)為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設(shè)計(jì) | 高精度光學(xué)元件、硬質(zhì)基底壓印 |
mr-UVCuF26SF | 溶劑型噴墨專(zhuān)用，低自發(fā)熒光，生物相容性佳 | 生物芯片、醫(yī)療器件 |
2.
2.
熱壓印（T-NIL）光刻膠
| mr-I 9000M | 熱固性樹(shù)脂，無(wú)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg），耐高溫 260°C，yongjiu光學(xué)透明 | 高溫環(huán)境應(yīng)用（如封裝、光學(xué)透鏡） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸堿/有機(jī)溶劑，超高紫外透過(guò)率 | 微流控芯片、透明器件 |
3. 創(chuàng)新工藝方案
NIL + 剝離工藝：結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實(shí)現(xiàn)復(fù)雜金屬納米結(jié)構(gòu)（如 200nm 金屬網(wǎng)格）。
NIL + 深度刻蝕：通過(guò)含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實(shí)現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。
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