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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>工藝測量和檢測設備>關鍵尺寸測量設備> 非接觸式晶圓厚度測量儀 MX 301-Q

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非接觸式晶圓厚度測量儀 MX 301-Q

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2025/7/21 22:36:37
  • 訪問次數 103

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那諾中國有限公司專注于為大中華區域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業研發與生產等企業機構提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設備及科學分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質譜儀,包含飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)、質子轉移反應(PTR)質譜儀、電子轟擊電離(EI)質譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機,PA-MOCVD,飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)

非接觸式晶圓厚度測量儀 MX 301-Q是一款堅固耐用、性能穩定的晶圓厚度測量系統,用于快速、簡單地手動測量各類硅片的厚度,特別適用于由石英、藍寶石或玻璃等絕緣材料組成的各種晶圓厚度控制。該應用非常方便的一個新功能是不需要測量塊或校準樣片。它wan全是自動校準的!這意味著溫度變化和運輸后的機械變化也會得到補償。內置5位數字顯示屏,可獨立工作,也可通過串行接口與電腦連接,便于采集多次測量數據,并計算出單個晶圓或整批晶圓的平整度(TTV)、平均值及標準偏差。

在電容式傳感器對周圍布置兩個光柵裝置,可準確判斷該傳感器是否處于wan全未被晶圓遮擋、部分遮擋或wan全遮擋的狀態。


非接觸式晶圓厚度測量儀 MX 301-Q


非接觸式晶圓厚度測量儀 MX 301-Q適用于 30 至 200 毫米(更多尺寸可咨詢擴展定制)非導電晶圓的簡易單點厚度測量。使用此型號的晶圓厚度測量儀,可以簡單便捷地測量石英、藍寶石或者玻璃等非導電材料的晶圓厚度。在此前提下,需要預先了解材料的介電常數。該參數可通過測量已知樣品的物理尺寸并結合相關公式計算得出。

絕緣材料的厚度測量取決于其相對介電常數(即介電常數,通常用希臘字母ε表示)。

實際厚度計算公式:T(實際厚度)=T(測量厚度)*ε/(ε-1)

例如:當ε為10時,若介電常數存在 1% 的測量誤差,將導致約 0.1% 的厚度計算偏差。


主要技術參數(更多參數及型號,具體詳情請電聯或者留言):

晶圓尺寸
up to 200mm
厚度準確性±0.5μm
分辨率
0.1μm
厚度范圍
default 450 - 750µm
可測量高電阻率材料
yes
軟件
EHMaster
電源100 – 240 V, 50 – 60 Hz






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