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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>工藝測量和檢測設(shè)備>關(guān)鍵尺寸測量設(shè)備> 晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

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晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

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  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/7/28 23:49:09
  • 訪問次數(shù) 72

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那諾中國有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺(tái)灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性價(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀,包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012是一款非接觸式晶圓厚度測量儀器,可以用于表征晶圓的厚度、TTV、電阻率、P/N摻雜類型,是一款綜合型的測量設(shè)備。該型號(hào)測量儀適用于200mm和300mm的硅片。

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012

晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012專為硅片性能表征而設(shè)計(jì),集成了非接觸式厚度測量、電阻率檢測及 P/N 型摻雜識(shí)別傳感器。除中心測量點(diǎn)外,每半次掃描范圍內(nèi)最多可設(shè)置 15 個(gè)附加測量點(diǎn)。設(shè)備支持選配 90° 旋轉(zhuǎn)后重復(fù)掃描功能,確保測量全面性。通過串行接口實(shí)現(xiàn)與 PC 的數(shù)據(jù)通信,配套提供功能強(qiáng)大的 MX-NT 操作軟件。該系統(tǒng)可無縫集成于自動(dòng)化機(jī)器人分選系統(tǒng)中,提升產(chǎn)線智能化水平。


操作原理與機(jī)械結(jié)構(gòu)

該測量儀為一款緊湊型臺(tái)式設(shè)備,專用于對(duì)硅片厚度及電阻率進(jìn)行非接觸式測量。測量過程中,硅片將自動(dòng)傳送至儀器內(nèi)部。在傳送路徑上,依次經(jīng)過兩個(gè)電阻率傳感器和一個(gè)厚度傳感器,系統(tǒng)可在硅片中心及由測量配方預(yù)設(shè)的多個(gè)位置進(jìn)行采樣,橫向分辨率達(dá)1毫米。硅片可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)翻轉(zhuǎn),最多支持18次掃描。在頂部指定位置,通過非接觸式P/N型傳感器對(duì)摻雜類型進(jìn)行判定。測量所得數(shù)據(jù)經(jīng)由儀器串行接口傳輸至Windows計(jì)算機(jī),由配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與結(jié)果顯示。該軟件同時(shí)支持批次數(shù)據(jù)管理及報(bào)告打印功能(詳見MXNT說明文檔)。


晶圓厚度/電阻率/PN摻雜型測量儀 MX6012


測量原理

厚度:電容式傳感器

電阻率:渦流原理

摻雜類型:表面光電壓系統(tǒng)


主要技術(shù)參數(shù)

晶圓尺寸:200mm,300mm

厚度:600-900μm

最大翹曲:100μm

電阻率:0.001 – 200 Ohm·cm

摻雜類型檢測:0.020 – 200 Ohm·cm

軟件:MXNT






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