MPCVD適合的應用:

化學氣相沉積法制備高品質單晶金剛石

化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石自支撐厚膜

化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石薄膜

化學氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜

MPCVD產品特點：

 本產品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設備，功率密度高；

水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔，保證系統能長時間穩定工作；

基片溫度以微波等離子體自加熱方式達到；

真空測量儀表采用全量程真空計，可**測量本底真空和工作氣體壓強；

真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為1Pa)，系統可自動控制沉積氣壓；

配備冷卻水循環系統，確保裝置高功率下可長時間**穩定運行；

系統帶15寸觸摸屏，PLC自動控制，可設置溫度或氣壓恒定，可保存復用多達20套工藝文件；

全自動工藝控制模塊，可以穩定可靠地制備高品質金剛石薄膜和晶體

MPCVD技術指標與特性:

系統安裝要求

由客戶提供以下安裝條件：

1. 氣體連接

2. 電源

a) 供電電壓：AC 380V(±10％)，頻率50Hz，三相四線，室內具有獨立的地線，

接地電阻效益4Ω，*大功率20kw

b) 建議每臺設備在1 米之外的墻上預留單獨的空氣開關，空氣開關規格：4P32A

帶漏電保護。

c) 在進行任何連接之前，應關閉系統內配電子系統。

3. 冷卻水

客戶需自備工業冷水機：

a) 制冷能力：10kw

b) 流量：>30L/min

c) 建議進水溫度：20℃，*高進水溫度<25℃

d) 入口水壓：≥5.0 kg/cm2 （或揚程>45 米）

e) 系統進水出水連接：φ19mm（寶塔接頭）

f) 為了避免因腐蝕而出現問題，建議使用純凈水

4. 系統控制用壓縮空氣需求

a) 工作氣路：用戶需自備CH4, H2, N2, O2 四路氣體，氣體壓力0.2MPa，氣體純

度由用戶根據工藝需求自行確定

b) 氣體接口：1/4”VCR 接口

UP-206 全自動微波等離子體系統產品規格書

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a) 壓縮干空氣（CDA）：系統需提供CDA 氣路，氣體壓力≥0.4MPa。

b) 接口：φ8 快插接口（氣動快插）

5. 設備排氣

a) 客戶需自備排氣通道，設備的排氣口通過KF25 接口連接到排氣通道。

驗收

1. 真空泄漏：真空腔漏率＜0.1Torr/12 小時

2. 微波泄漏：測量低于2mW/cm2 （微波輸出5kw 時）

3. 水管漏水：確認水管沒有漏水

4. 系統測試：系統可正常啟動和運行，等離子體火球均勻穩定

保修

3. 客戶需自行保證氣體、電力和水等公用設施的工程施工進度不影響設備的安裝調試，

由此引起的延期不予延長保修期。