3C閥門類別 | 工業 | 流動方向 | 其他 |
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應用領域 | 能源,電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
瑞士VAT真空閥-真空多閥裝置
瑞士VAT是真空閥門制造商,專注于高精度真空閥的設計與生產,產品廣泛應用于半導體、光伏、平板顯示、科研等領域,以高可靠性、長壽命和密封性能著稱。
1. 公司背景
瑞士VAT是真空閥門制造商,專注于高精度真空閥的設計與生產,產品廣泛應用于半導體、光伏、平板顯示、科研等領域,以高可靠性、長壽命和密封性能著稱。
2. 核心產品系列
(1) 單閥產品
系列型號:
角閥(如VAT 54系列):適用于高真空(HV)和超高真空(UHV)環境。
直通閥(如VAT 47系列):低流阻設計,適合快速抽真空。
閘閥(如VAT 19系列):金屬密封,耐高溫(可達450°C),用于半導體工藝腔室。
調節閥:精確控制氣體流量,用于工藝壓力調節。
技術參數:
泄漏率:<10?? mbar·l/s(金屬密封)。
材質:不銹鋼、鋁合金,表面鍍鎳或電解拋光。
驅動方式:氣動、電動或手動。
(2) 多閥裝置(Multi-Valve Systems)
設計特點:
集成多個閥門(如隔離閥、旁抽閥、主泵閥)于單一模塊,簡化真空系統布局。
模塊化設計,支持定制化組合(如VAT Lockfast®系列)。
快速響應(開關時間可低至50ms)。
典型應用:
半導體刻蝕/沉積設備的多腔室隔離。
光伏鍍膜系統的真空路徑切換。
3. 核心技術優勢
密封技術:
金屬密封(無彈性材料)適用于高溫和腐蝕性環境。
彈性密封(如氟橡膠)用于經濟型應用。
驅動系統:
氣動執行器標配防爆設計,電動執行器支持PLC控制。
智能控制:
支持PROFINET、EtherCAT等工業協議,實時監控閥門狀態。
4. 典型應用領域
半導體制造:晶圓傳輸腔室、刻蝕設備。
光伏產業:PECVD、ALD設備的真空隔離。
科研裝置:同步輻射光源、粒子加速器。
工業真空:鍍膜機、熱處理設備。
5. 選型參考
關鍵參數:
通徑尺寸(DN16至DN400)。
壓力范圍(從大氣壓到10?1? mbar)。
兼容氣體(腐蝕性/惰性氣體)。
認證標準:
SEMI F47(半導體設備抗電壓波動標準)。
CE/UL認證。
6. 服務與支持
提供定制化設計、快速交付及全球技術支持。
在線配置工具(如VAT Configurator)輔助選型。
瑞士VAT真空閥-真空多閥裝置