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晶圓傳輸平臺是半導體工藝設備的構(gòu)成部分,主要實現(xiàn)晶圓在潔凈環(huán)境
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加熱臺主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
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帶紅外線加熱的臺式提拉機旨在盡可能減少操作員的參與,以便微控制
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凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等,例如對大型晶圓、芯
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?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復樣品臺)配有一臺直流電源,一臺射
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本產(chǎn)品為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀,設備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源,可提供*
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本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學
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CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系
